• 行业应用
CMP 解决方案在半导体技术高速公路上发挥着不可或缺的作用。它们是高密度集成电路生产中必不可少的步骤。CMP 溶液是由多种组分组成的复杂分散体。这些胶体系统的生产和稳定性非常复杂，很难预测，因此必须在生产过程中，甚至在zui终装运之前对它们进行监控。一些CMP 溶液表现出独特的行为，受剪切和机械应力的影响，导致不可逆的结块。这些低水平的结块常常在晶圆片生产过程中造成划伤，有时直到生产很长时间才发现划伤，给zui终用户造成重大经济损失。
在酿造过程中及产品的精加工阶段，测定啤酒中颗粒的浓度对某些步骤的评估与调整相当重要 对终
连续光源采用特制短弧氙灯，灵敏度高，检出限低，分辨率0.002nm，去除干扰能力强，高灵敏度，高量子化效率的
梅特勒-托利多,METTLER-TOLEDO（纽约证券交易所代码：MTD）：世界上首台替代法单盘天平的fa明
通过引入UPC2，该公司成功减少了三分之一以上的溶剂用量和废液量，除溶剂时间也缩短为原来的十分之一此外，还节
With the development of Agilents helium (He) mode Octo
污水再生利用是缓解城市水资源短缺，促进水资源良性循环的重要措施，可创造出巨大的经济效益与社会效益
（微波消解系统 微波马弗炉/灰化系统 微波水份/固形物分析仪） 在整个污水处理流程中,有八处可使用C
安东帕Multiwave 高性能样品消解设备，高温高压全密闭式消解，实现消解过程中的污染和得到Z高质量的样品
Zeta点位是固液界面表面带电情况的重要参 数通过流动电势测量得到的Zeta电位可以进一 步反映不同方式处理
沪公网安备 31011502008050号
