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- 陶圭 2018-03-15 18:58:57
- 高锰酸钾和双氧水在酸性条件下的方程式是:5H2O2 + 2MnO4- + 6H+ == 5O2 + 2Mn2+ + 8H2O 两者的物质的量之比为2:5。按照这个比例进行计算就可以了!
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过氧化氢
也叫双氧水,是半导体行业常用的一种化学试剂,主要用作半导体硅晶片清洗剂,蚀刻剂和光刻胶去除剂,还可用于高级绝缘层制取,电镀液无机杂质去除,电子行业中铜、铜合金和镓、锗的处理,以及太阳能硅晶片的蚀刻和清洗。在处理过程中,试剂中的杂质会对元器件性能产生致命影响,因此必须使用纯度非常高的过氧化氢。
目前国内在过氧化氢方面的标准主要有GB/T 1616-2014《工业过氧化氢》、GB 22216-2008《食品添加剂 过氧化氢》、GB/T 6684-2002《化学试剂 30%过氧化氢》和HG/T 5553-2019《土壤修复用过氧化氢》,标准的要求相对较低,不能满足半导体行业的使用。而国际半导体协会SEMI则是专门针对半导体行业推出了相关的国际标准《SEMI C30-0301SPECIFICATIONS AND GUIDELINES FOR HYDROGEN PEROXIDE》,其中对半导体用的过氧化氢中各项杂质含量做出了规定,并推荐了检测方法。
对于Grade 2和Grade 3产品,SEMI建议将样品加碱蒸馏后使用离子色谱法检测其中的氯离子、硝酸根、磷酸根和硫酸根。瑞士万通离子色谱可以充分满足该标准的检测要求,并且针对前处理中加碱容易引入杂质的方法缺陷进行了改进。
样品前处理中加碱蒸馏的目的是为了将过氧化氢分解,从而避免过氧化氢对色谱柱的氧化破坏。除SEMI标准中提到的上述方法外,还有人采用铂电极催化的方法来分解过氧化氢,该方法虽然避免了杂质离子的引入,但是样品处理时间较长,而且需要加热;也有人采用在线阀切换的方法减少过氧化氢对色谱柱的破坏,但是该方法需要的仪器配置较高,不适合大面积推广使用。针对以上问题,瑞士万通推出了英蓝预浓缩-基体消除技术,电子级过氧化氢可直接进样,无需前处理,且仪器配置简单,可有效降低使用成本。
只需将样品放置在自动进样器上,系统便可自动完成样品的基体消除和预浓缩过程。首先,通过瑞士万通高精度的移液装置Dosino移取一定体积的样品使其通过预浓缩柱,其中痕量阴离子被保留在预浓缩柱上,然后使用高纯水流经预浓缩柱,将不带电荷的过氧化氢冲入废液中,而其中的痕量阴离子则不会被洗脱下来,实现浓缩和基体消除的目的。再用淋洗液反向冲洗预浓缩柱,留在预浓缩柱上的阴离子即可被带入色谱柱进行分离。
某客户VL级H2O2样品谱图(25.5% ~ 26.5%)
英蓝预浓缩–基体消除技术对电子级过氧化氢直接进样分析的方法,可以有效解决过氧化氢基体对色谱柱及谱图的不利影响,同时直接进样使得痕量阴离子的检测灵敏度及准确性大幅提高。
英蓝预浓缩– 基体消除技术是英蓝预浓缩、英蓝基体消除技术的联用,除此之外瑞士万通还有英蓝超滤、英蓝渗析、英蓝单标多点、英蓝基体中和等多种样品前处理技术,可以根据样品情况自由组合配置,充分满足各种不同应用场景的需要,为您提供定制化服务。
想要了解更多内容,请联系当地销售工程师或拨打400-604-0088,瑞士万通竭诚为您服务!
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