关于磁控溅射的几个问题，谢谢大家了

低吟__峩薆尓° 2012-11-22 06:35:58 701 浏览

刚刚开始做磁控溅射，现在有几个问题，求大侠帮助啊，多谢多谢1.在细纤维（柱状）上镀，关于镀膜的厚度如何测量，能用台阶仪或者电镜吗2.要镀的材料是氧化锌，是直接用氧化锌靶还是锌... 刚刚开始做磁控溅射，现在有几个问题，求大侠帮助啊，多谢多谢 1.在细纤维（柱状）上镀，关于镀膜的厚度如何测量，能用台阶仪或者电镜吗 2.要镀的材料是氧化锌，是直接用氧化锌靶还是锌靶在氧气下镀，氧分压如何控制 3.目前只有其他金属单质的速率，能不能根据这个速率测定Z后镀膜的时间 4.Z大的问题是这个镀完之后锌和氧比例貌似不是1:1 如何确定元素的实际比，能不能让锌和氧气的比接近一比一的理想值啊叩谢大家了，满意的有财富追加，拜托诸位了展开

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4s1v6xbd 2012-11-23 00:00:00

回答问题可能不是特别对口，部分题目不是特别详细，也没办法详细。如果有疑问再追问或者联系我。 1.膜层厚度测量问题：如果是纯净的氧化锌，或者说是透明的，就可以用光学方法测量膜层厚度，如果是非透明的，就用台阶仪，这量类的测量厚度的光学仪器不少，我不再细说。需要注意的是选择适当的测量范围的仪器。 2.一般磁控溅射可以分为直流（二级）溅射、中频、射频。直流溅射电源便宜，沉积膜层致密度较差，一般国内光热、薄膜电池选择使用的方法，能量较低，溅射靶材为金属靶材。射频能量较高，一般溅射陶瓷靶材。中频两者之间，溅射靶材也为金属靶材。 3.金属靶材溅射过程中，具有溅射速率和沉积速率。溅射速率是靶材原子被溅射逸出的情况，而沉积在基体上的情况为沉积速率，两者在溅射气压等外界环境不同的情况下，并不成正比。但是需要固定工艺下的长时间计算可以确定镀膜时间的。（但是这个时间一般按照溅射完成后膜层的厚度测量来的更加准确） 4.在金属靶材溅射过程中，如果想达到氧化亚锌的理想值，比较难，需要精确控制溅射产额和氧气流量。一般溅射物质为氩气（价格便宜，溅射产额较高）。主要为控制过程，国内的质量流量计一般都比较粗，建议用压电陶瓷阀，德国的sus04。另一个方案是射频溅射氧化亚锌陶瓷靶材，这个容易控制溅射后沉积膜层的两元素的比值。但是需要靶材符合两元素的比之条件，另外，在射频溅射过程中，需要严格控制靶材，陶瓷靶溅射过程中，容易断裂。还有就是射频的危害性较大。以上为泛泛而谈。如果不通，精确讨论是免不了的。

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