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挑战 

很多工艺使用无机酸作为重要原料。在确定特定应用的 适用性时，尤其是在确定该应用对工艺和产品的影响时， 准确评估酸的质量是至关重要的。 

酸中的可溶性杂质会影响生产工艺和产品质量。过量的有机污染物带来以下问题：

- 生产工艺效率低下 

- 产品被污染 

- 生产批次不合格 

- 工艺和产品偏差

化工行业都需要确定和控制无机酸的质量。这些行业包 括：原料药物（ API ， Active Pharmaceutical  Ingredient）、化肥、半导体加工、化学衍生物。酸用 于离子交换树脂再生，也可以是产品配方的原料。

在半导体行业中，硫酸用于晶圆蚀刻工艺。酸的纯度和 洁净度对生产至关重要，这就要求硫酸供应商对产品批 次进行污染控制，以满足工艺要求。很多行业在电镀工 艺中使用硫酸铜。为了提高化学品的性能，生产商添加 有机基体的匀染剂和增白剂。了解添加剂的用量及其潜 在的分解物，有助于控制产品质量和工艺。

解决方案

由于有机污染物的种类繁多，用总有机碳（TOC，Total  Organic Carbon）作为评估酸质量的参数不失为测量样 品杂质的有效方法。但是，分析仪器必须具有酸基体的 化学耐受性，并能在低 pH 值下有效氧化有机碳，这样才能得到正确的测量结果。

Sievers InnovOx ES 实验室型 TOC 分析仪采用超临界水 氧化（SCWO，Supercritical Water Oxidation）技术来 测量酸溶液中的 TOC 的 ppm 和 ppb 含量。事实证明，SCWO 技术能够对磷酸、盐酸、硝酸、硫酸进行精 准 的 TOC 定量分析。

技术

Sievers InnovOx 实验室型分析仪采用 SCWO 技术， 将有机碳分子氧化成CO2，然后用非分散红外 （NDIR，Non-dispersive Infrared）检测技术进行精 确定量。在使用 SCWO 技术时，先在水的临界点以上 对样品进行加热和加压。在一定条件下（375˚C 和 220 巴），水成为超临界流体，水中的有机物高度可 溶，而无机盐不溶。这就提高了氧化效率，能够精确 测量腐蚀性和复杂基质中的 TOC，甚至浓酸中的 TOC。

硫酸中含有来自其自身生产过程的各种杂质，包括有 机污染物。这些污染物即使含量极低，也会给要求使 用高纯度原料的工艺带来风险，尤其是给半导体和电 化学沉积工艺带来风险。因此，为了优化工艺操作、 提供产量，必须对酸的质量进行定量分析。

硫酸（H2SO4）

在测试中，向 H2SO4 中加入不同浓度的邻苯二甲酸氢 钾（KHP），以此来评估 Sievers InnovOx 实验室型 分析仪的分析硫酸中 TOC 的能力。将 96%浓度的 ACS 级硫酸稀释到 24%，然后分别加入 0.2、0.5 和 2  ppm TOC 的 KHP，进而证明了分析仪的分析能力。

分析在 0 - 100 ppm 范围内进行，由于样品的 pH 值 适用于 TOC 分析，故无需使用酸剂。10%过硫酸钠氧 化剂足以分析此范围的 TOC。

表 1 中的分析数据包括加标浓度、测自空白 24%硫酸 溶液的 TOC、实测 TOC、以及回收 TOC 的含量和百分比。回收的 TOC 值等于实测 TOC 减去空白 TOC。

表中的数据证明了分析仪能够定量分析浓酸溶液中的 低浓度 TOC。当 TOC 从 2 ppm 降至 0.2 ppm 时，回收率百分比就会从 偏离，这主要是因为加标浓度（200 ppb）接近空白浓度（180 ppb）。在这种低浓 度下，空白浓度或仪器基线的波动会导致结果的波动。

表 1：在 24% H2SO4中的 TOC 分析

第二项测试分析了各种浓度硫酸的 TOC 回收率。将 1  ppm TOC 的 KHP 分别加到 1、5、10 和 24%的 H2SO4中， 测量数据如表 2 所示。回收的 TOC 值等于实测 TOC 减 去空白 TOC。

表 2：1 - 24% H2SO4的 KHP 回收率

5 - 24% H2SO4的 1 ppm TOC 回收率非常好， 但 1%  H2SO4的 TOC 回收率就偏离了 45%。 当 TOC 浓度接近 空白 TOC 浓度时，空白测量值的波动会显著影响到计 算的 TOC 结果。

测试还评估了 Sievers InnovOx 实验室型分析仪分析 24% ACS 级硫酸中 0.1 - 0.5 ppm 范围 TOC 的能力。分 别将 100、200、300 ppb KHP 加到 ACS 级硫酸中，测 量结果如表 3 所示。

表 3：24% H2SO4的低于 500 ppb 的 KHP 回收率

测量结果显示了预期的增长趋势。100 ppb 加标显示 了 50 ppb 的增长，200 ppb 加标显示了 120 ppb 的增 长，300 ppb 加标显示了 230 ppb 的增长。显然，分 析仪能够检测出 410 ppb 基线上的 50 ppb 的增长， 这表明分析仪的灵敏度完全适用于分析如此低的浓度。 对硫酸进行高灵敏度分析的限制因素是基体中的基线 TOC。同任何其它分析一样，基线值附近的结果容易 变化。人们都知道，H2SO4的纯度低于同样浓度的其 它无机酸（如 HCl、HNO3等）的纯度，因此不难预料， 纯品 H2SO4中含有一定量的有机杂质。

结论 

Sievers InnovOx 实验室型分析仪能够精 准地测量出浓度Z 高为 24%的硫酸中的 TOC。 Z 高 2 ppm KHP 的 实测回收率具有出色的精确性和准确性。空白测量值 的大小和稳定性是对 H2SO4进行高灵敏度 TOC 分析的 限制因素。分析仪的灵敏度（检测限 LOD = 水中的 50 ppb）足以区分 100、200 和 300 ppb TOC。分析仪 在整个测试过程中表现出极 佳的耐用性，且能耐受 H2SO4基质，无降解迹象。

       按照欧洲药典(EP 2.2.44)与美国药典 (USP 643), 制YY水中TOC的浓度应≤ 0.1 mg/l ，用于TOC分析的仪器的检出限应为0.05 mg/l 或更低。
       检测的强制性限制远远超过了acquray TOC。图1显示的是使用acqurayTOC分析的0.05 mg/l TOC标准溶液的峰值，与基线明显不同，与TOC浓度为0.03 mg/l的纯水相比，峰值面积更高。两种样品的TIC浓度相同，达到了要求的重现性。注射量为10毫升，可用40毫升的小瓶进行三次重复分析。使用acquray TOC可以获得更高的注射量，Z高可达40毫升，这将进一步改善由于碳量差异较大而导致的低浓度分离。

图1. 分析含30ppb TOC 的纯水与含50ppb TOC的标液， TOC与TIC显示在同一谱图中

       采用五种标准溶液对acquray TOC进行校准， TOC浓度范围为0.05mg/至0.09 mg/l。 标液的线性和重现性均良好(见图1和表1)。根据校准报告，可以计算出检测限为2ppb。

表 1.采用acquray TOC分析TOC含量为50-90ppb的标液的结果

图 2. 0.05 mg/l 至0.09 mg/l的5点校准

       在样品制备之前，对玻璃器皿进行消毒，并进行非常精确的操作是非常重要的，以达到稳定可靠的结果。此外，所有潜在的污染都必须避免。使用过硫酸盐作为氧化剂是可以避免的，因为强紫外线灯的功率足以氧化如此低的碳量。另外，酸化还应使用痕量分析用的磷酸(纯度≥99.999%)。

结论

       结果表明， acquary TOC适合分析低ppb级的碳。因此，acquray TOC 分析仪是实验室分析超低碳浓度的样品的li想选择。

挑战 

       过氧化氢（H₂O₂）是许多行业在生产工艺中广泛使用的 重要化学品。许多应用（例如半导体制造）都需要使用高纯度、低污染的 H₂O₂溶液。有效地测量 H₂O₂溶液中的 杂质浓度（特别是有机碳浓度），是确定过 H₂O₂溶液在工艺中的适用性以及 H₂O₂溶液对工艺和产品的影响的关键。 

       H₂O₂ 溶液中的可溶性有机杂质会对半导体工艺和半导体产品造成影响。由于基体产生化学反应，因此分析 H₂O₂ 溶液中的有机物含量极为困难。此外，H₂O₂ 溶液中的有 机化合物很稳定，即使在高反应条件下也难以被完全氧 化。要想对 H₂O₂溶液进行准确而稳健的总有机碳分析， 就需要一种能够有效氧化稳定的有机化合物的仪器和方法。 

解决方案

       TOC 分析被广泛用来评估在半导体工艺中使用的高纯度化学品的质量。但分析仪器必须对易反应的基体具有化学耐受性，并在低 pH 值下能够有效氧化有机碳，以获得有效结果。 

       Sievers InnovOx ES 实验室型 TOC 分析仪采用超临界水 氧化（SCWO，Supercritical Water Oxidation）技术， 能够有效氧化基体中的难以分析的不稳定有机化合物， 从而测量出 TOC 的 ppm 和 ppb 浓度。我们已经用磷酸、盐酸、硝酸、硫酸等酸剂成功完成了 TOC 定量测量。

技术 

        Sievers InnovOx TOC 分析仪采用超临界水氧化技术， 将有机碳分子氧化为 CO₂，然后用非色散红外（NDIR， Non-Dispersive Infrared）检测技术进行精确定量。 在 超临界水氧化过程中，样品被加热、加压，直到水的临 界点以上。在此条件下（375˚C 和 220 巴），水成为超 临界流体，水中的有机物高度可溶，而无机盐不可溶。 此条件提高了氧化效率，从而能够测量出反应性基体或 复杂基体中的 TOC。

过氧化氢 (H₂O₂)  

       我们用 30％H₂O₂ 溶液中的加标咖啡 因的浓度来评估 Sievers InnovOx ES 实验室型分析仪分析 H₂O₂溶液中 TOC 的能力。我们分析了加标样品，并将实际 TOC 结果与预期值进行比较，从而证明了此评估方法的可行性。 

       我们在两个范围（0 - 5000 ppm 和 0 - 20000 ppm） 内进行分析，证明了分析仪在宽广的 TOC 范围内具有适用性 。我们还确定了酸剂 （ HCl ） 和氧化剂 （(NH₄)₂S₂O₈）的Z佳设置，以得到Z准确和Z精确的测量结果。 

       表 1 中的分析数据包括加标浓度、从加标的 30％H₂O₂ 样品中测得的 TOC、TOC 百分比回收率。用实测 TOC 值除以加标值来计算回收的 TOC 值。 分析数据显示，分析仪能够对不同浓度的 H₂O₂ 溶液进 行 TOC 定量测量。为了减少在氧化环境中损失咖啡 因，我们在加标后 3 小时内完成分析。

表 1：对 30％ H₂O₂（0 - 5000 ppm 范围）进行 TOC 分析

       第二项测试评估了在一系列氧化剂设置下的 TOC 回收率的优化情况。向 30％H₂O₂溶液中加入 500 ppm 咖啡 因， 然后在 0 - 20000 ppm 范围内进行分析。测量数据如表 2 所示。用实测 TOC 值除以加标值来计算回收的 TOC 值。

表 2：对 30％ H₂O₂（0 - 20000 ppm 范围）进行 TOC 分析

       在各种氧化剂设置下，500 ppm TOC 的回收率都非常 好。 相对标准偏差（RSD）表明，分析范围的测量精确 度符合标准。用 5％到 10％范围的氧化剂设置，得出了 Z佳结果。 

结论 

    Sievers InnovOx ES 实验室型分析仪能够准确地、精确 地测量 30％的浓缩 H₂O₂溶液中的各种 TOC 浓度。测量 的精确度和准确度很高，咖啡 因回收率可达 500 ppm。 在整个测量过程中，分析仪器表现出极 佳的稳定性，并 且耐受 H₂O₂基体，在规定的维护周期内没有发生降解。 

建议 

       表 3 是建议的 H₂O₂分析参数。使用对各个 TOC 浓度范围建议的参数组，就能得到Z准确和Z精确的测量数据。

表 3：对 30％ H₂O₂的建议的 TOC 分析参数

       挑战 

       过氧化氢（H₂O₂）是许多行业在生产工艺中广泛使用的重要化学品。许多应用（例如半导体制造）都需要使用高纯度、低污染的 H₂O₂溶液。有效地测量 H₂O₂溶液中的杂质浓度（特别是有机碳浓度），是确定过 H₂O₂溶液在工艺中的适用性以及 H₂O₂溶液对工艺和产品的影响的关键。 

       H₂O₂ 溶液中的可溶性有机杂质会对半导体工艺和半导体产品造成影响。由于基体产生化学反应，因此分析 H₂O₂ 溶液中的有机物含量极为困难。此外，H₂O₂ 溶液中的有机化合物很稳定，即使在高反应条件下也难以被完全氧化。要想对 H₂O₂溶液进行准确而稳健的总有机碳分析， 就需要一种能够有效氧化稳定的有机化合物的仪器和方法。

       解决方案 

       TOC 分析被广泛用来评估在半导体工艺中使用的高纯度化学品的质量。但分析仪器必须对易反应的基体具有化 学耐受性，并在低 pH 值下能够有效氧化有机碳，以获 得有效结果。 Sievers InnovOx ES 实验室型 TOC 分析仪采用超临界水氧化（SCWO，Supercritical Water Oxidation）技术， 能够有效氧化基体中的难以分析的不稳定有机化合物， 从而测量出TOC的ppm和ppb浓度。我们已经用磷酸、盐酸、硝酸、硫酸等酸剂成功完成了 TOC 定量测量。

       技术  

       Sievers InnovOx TOC 分析仪采用超临界水氧化技术， 将有机碳分子氧化为 CO₂，然后用非色散红外（NDIR， Non-Dispersive Infrared）检测技术进行精确定量。 在超临界水氧化过程中，样品被加热、加压，直到水的临界点以上。在此条件下（375˚C 和 220 巴），水成为超临界流体，水中的有机物高度可溶，而无机盐不可溶。 此条件提高了氧化效率，从而能够测量出反应性基体或复杂基体中的 TOC。

       过氧化氢 (H₂O₂)  

       我们用 30％H₂O₂ 溶液中的加标咖啡 因的浓度来评估 Sievers InnovOx ES 实验室型分析仪分析 H₂O₂溶液中 TOC 的能力。我们分析了加标样品，并将实际 TOC 结果与预期值进行比较，从而证明了此评估方法的可行性。 

       我们在两个范围（0 - 5000 ppm 和 0 - 20000 ppm）内 进行分析，证明了分析仪在宽广的 TOC 范围内具有适用性 。 我们还确定了酸剂（ HCl ） 和氧化剂（(NH₄)₂S₂O₈）的Z佳设置，以得到Z准确和Z精确的测量结果。

       表 1 中的分析数据包括加标浓度、从加标的 30％H₂O₂ 样品中测得的 TOC、TOC 百分比回收率。用实测 TOC 值除以加标值来计算回收的 TOC 值。 

       分析数据显示，分析仪能够对不同浓度的 H₂O₂ 溶液进行 TOC 定量测量。为了减少在氧化环境中损失咖啡 因，我们在加标后 3 小时内完成分析。

表 1：对 30％ H₂O₂（0 - 5000 ppm 范围）进行 TOC 分析

      第二项测试评估了在一系列氧化剂设置下的 TOC 回收率的优化情况。向 30％H₂O₂溶液中加入 500 ppm 咖啡 因， 然后在 0 - 20000 ppm 范围内进行分析。测量数据如表 2 所示。用实测 TOC 值除以加标值来计算回收的 TOC 值。

表 2：对 30％ H₂O₂（0 - 20000 ppm 范围）进行 TOC 分析

       在各种氧化剂设置下，500 ppm TOC 的回收率都非常好。相对标准偏差（RSD）表明，分析范围的测量精确度符合标准。用 5％到 10％范围的氧化剂设置，得出了Z佳结果。

       结论 

       Sievers InnovOx ES 实验室型分析仪能够准确地、精确 地测量 30％的浓缩 H₂O₂溶液中的各种 TOC 浓度。测量的精确度和准确度很高，咖啡 因回收率可达 500 ppm。 在整个测量过程中，分析仪器表现出极 佳的稳定性，并 且耐受 H₂O₂基体，在规定的维护周期内没有发生降解。

       建议 

       表 3 是建议的 H₂O₂分析参数。使用对各个 TOC 浓度范围 建议的参数组，就能得到Z准确和Z精确的测量数据。

Sievers^® M500/M500e在线TOC分析仪已于2020年12月同步上市！M500/M500e是基于Sievers无试剂膜电导检测技术的第三代在线TOC分析仪，专为准确性、效率和可靠性而设计，拥有业内的领先技术，同时引入了新功能以提GX率并满足法规要求。

让我们先通过视频，快速了解下全新

M500/M500e型号的特点。

Sievers^® M500/M500e在线TOC分析仪的开发在原Sievers 500 RL/500 RLe的基础上，充分听取了用户的需求和建议，进一步提高了业内领先的分析性能，同时增加了一系列前沿特点。

检测参数

●TOC检测范围：0.03 ppb – 2500 ppb

●检测限：0.03 ppb

●定量限：0.1 ppb

●检测方法：膜电导检测技术，可防止碳氢氧以外杂原子化合物造成的干扰

●可同时进行TOC和电导率检测，电导率检测范围较上一代500 RL/500 RLe的0.01-35 μS/cm，扩大至0.01-800 μS/cm

提升效率

●连续在线检测的分析时间仅需3分钟，较上一代500 RL/500 RLe缩短50%，方便用于实时数据、早期检测和过程控制¹

●首次检测时间仅需10分钟，较上一代500 RL/500 RLe缩短30%

●校准、验证、维护、冲洗和协议运行时间较上一代500 RL/500 RLe缩短50%

●超级iOS 4端口取样器，自动取样，提GX率

●标准iOS可在在线采样与吸样取样方法之间轻松切换

●自动化的系统适用性、校准和验证

●标准化与自定义协议，提高生产率

●新增自动调零功能，可自动根据数据波动进行调整，并确定自动调零频率

●新增开机向导功能，对设置、诊断和维护进行导引，提供用于仪器操作的图片、工具和教程

●10英寸触摸屏，界面更大、更清晰，使设置和操作更快捷简便

●实时诊断：增强型硬件和软件诊断惯例，增加内部流量传感器和可视化设置与常数，故障排除更快捷，检测更可靠

增强数据功能

输入

从500 RL/500 RLe的1个隔离二进制输入增加为2个隔离二进制输入

数据通信

三个4-20 mA、一个串行（RS-232）、一个USB端口、四个报警输出、一个以太网端口，可选：WiFi2、Profibus、Profinet

数据导出

USB端口、网络驱动器、Profinet、Modbus、TCP/IP，可选：WiFi2、Profibus

仪器改进

●改进IP防护等级，从IP 45提高至IP 55

●与500 RL/500 RLe相同的占地面积，易于升级

1. M500基本型号连续在线检测的分析时间为6分钟，M500e基本型号连续在线检测的分析时间为3分钟。

2. WiFi选项仅在部分国家适用。

对于制YY户来说，

符合法规要求是重中之重

点击图片查看更多产品详情

Sievers^® M500在线TOC分析仪符合各大药典法规，包括：

★ 美国药典（USP）

★ ZG药典（ChP）

★ 欧洲药典（EP）

★ 日本药典（JP）

★ 印度药典（IP）

★ 韩国药典（KP）

★ 关于TOC和电导率分析的所有其他药典

在数据可靠性方面，Sievers M500采用全面的业内领先的TOC数据管理工具，以确保数据安全。M500采用全新数字功能，符合21 CFR PART 11，遵守美国FDA和其他药典的数据可靠性（Data Integrity）指南：

数据传输

➤ 远程访问

➤ 以太网和WiFi

➤ 使用4-20 mA、Modbus、Profinet和二进制的高级通信

数据安全

➤ 密码保护

➤ 数据加密

➤ 可定制访问、角色和权限

基于WEB的数据管理

➤ 封闭的系统架构

➤ 可定制的数据传输和导出

对于电子行业用户而言，

兼顾超低浓度检测准确性

和效率的M500e是理想之选

Sievers^® M500e与原500 RLe一样，专为电子行业用户设计，采用Sievers膜电导检测技术，无需试剂，可实现低于1 ppb TOC的准确性、精确性和稳定性。

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M500e增加了低浓度校准和验证协议，

确保质量和控制

新低浓度校准（250 ppb 邻苯二甲酸氢钾KHP）和确认（100 ppb异丙醇IPA）

●使用经认证的标准品，在接近操作范围进行校准，并使用难以氧化的化合物进行确认。

加快冲洗：双倍速度

为使正常运行时间和低浓度数据收集能力ZD化，M500e采用更快速的冲洗时间，可实现：

●冲洗周期比上一代产品快50%以上（低至3分钟）

●最多数据生成，即使在维护或消耗品更换后也是如此

       水是生命之源，是人类和众多生物赖以生存的基础，而在制药领域，水质更是影响药品质量的关键要素，制YY水达标与否，对制药企业来说至关重要。那么在制药过程中，如何判断水质是否达标?有行业人士指出，相关制药水质检测仪是制YY水质量保证的“标尺”，随着技术的不断进步，越来越多完善的制药水质检测方案将为制YY水保驾护航。

       据了解，在药品生产工艺中，制YY水包含饮用水、纯化水、注射用水、灭菌注射用水。根据2000ZG药典规定，饮用水是不能直接用于制剂的制备或试验用水，因此制YY水生产必须配备完整的制YY水系统，且制YY水的制备需从生产设计、材质选择、制备过程、贮存、分配、使用等均应符合生产质量管理规范的要求。为确保制药水质万无一失，为生产高质量的产品提供优质的水源，制药水质检测仪器----总有机碳分析仪在整个制YY水生产工艺过程中的地位举足轻重。

RT1901B总有机碳分析仪（在线、离线一机两用，适用于制YY水测定总有机碳含量）

       随着工农业生产的迅速发展，饮用水源污染日益严重，相当多的有机污染物存在于水中，将直接影响水体的质量，对我们的生活和生产造成危害。饮用水水质不断恶化。而饮用水水质的好坏与发生肿瘤、癌症的关系极大。世界卫生组织和国际癌症病研究机构通过大量的数据资料证实，现时发生癌症的50 %是由饮食不当造成的，而其中相当重要的是饮用水质量差 。

       各级政府把保护饮用水源和污染FZ纳入当地经济、社会发展规划和水污染FZ规划，以环保定生产，环保不过关，一切都免谈！工业水污染排放，强制实施TOC总有机碳等相关污染物指标的检测。

        RT1901E总有机碳分析仪（地表水、地下水、生活污水、工业废水中总有机碳(TOC)的测定，应用于环境监测、城市给排水、疾病控制、化工电力等行业。）

       只有生产设备及检测仪器先进、有社会责任感的环保达标企业才能获得生存发展的机会。

TOC总有机碳分析仪的维护与保养：

操作环境空间要求：

       TOC分析仪必须是在室内，或相当于室内条件的遮风挡雨的外围设备将分析仪放在清洁的平面上，此处的空间和承重足以满足该仪器的尺寸和重量要求；仪器固定位置可置于墙面，或其它固定的装置上。

操作环境温度要求：

       应该避免阳光直射和高温；如果在温度过高（超过40°C）的环境下操作，可能会导致分析仪无法正常工作；如果在温度过低（10°C）的环境下操作，可能会导致分析仪的测量结果有误或冻坏管路（环境温度要求为10-40°C，零度以下会冻坏仪器内部管路或部件，这种情况违反了操作环境要求，不属于保修范围）。

仪器供电要求：

       标准220V/50Hz的三线单箱电源线，50/60赫兹，接地必须完备.

其他要求：

     【灰尘】环境应该少灰尘，减少灰尘对仪器操作以及仪器内部电路板的影响，避免短路或影响仪器的性能；

     【挥发性物质】仪器不可以与具有挥发性有机物的分析仪器（例如液相或气相）放于同一个实验室内；

     【震动】此仪器属于高精密分析仪器，仪器应轻拿轻放，避免剧烈震动。

样品要求：

     【出水口】确保测量口出水流速度不低于50mL/min，测量点出水口的接口管径应为1/4英寸（外丝螺纹，ZG俗称2分管），在管道与测量点间应有一个流量可调的、满足医YY水要求的开关；【样品温度】样品温度1-95°C；

       TOC总有机碳分析仪主要易损件UV灯和蠕动泵管更换周期为12个月。

近年来，水质监测方法形成的种类繁多，但总的来说分为试纸检测和传感器监测两类，传统的试纸监测方法，面临着操作过程复杂、试纸易受污染、监测不准确等问题，而探头法水质检测仪和国标法水质检测仪虽然克服了上述问题，但也面临着检测数据不易区分、价格昂贵以及占用空间大等缺陷，那么如何才能在保持检测过程简便、检测结果准确这两个关键优势的同时，减少检测仪的价格和占用空间，并提升其进一步区分能力呢？

经过多年努力，山东霍尔德电子自主研发的高精度总有机碳toc分析仪采用便携设计，使用电导率差值检测技术，检测精度高，响应时间短且配备大量的储存空间，能够存储大量的测试数据。产品符合国家法规和标准，可满足制药用水、注射用水、超纯水和去离子水的在线及离线的检测要求。

总有机碳TOC（Total Organic Carbon），是水中有机碳的总量，是水体中有机污染物总量的综合指标，通常以 mg/L（ppm）或 μg/L（ppb）为单位表示。也是实验室纯水机中常见的指标。

TOC 能准确和直接的表示有机物总量，因此在世界范围内 TOC 检测广泛用于环境监测、自来水、海水处理、污水处理、制药工业、微电子及半导体等行业。随着我国医药、电子等行业的迅猛发展，与之相关的国家标准、行业标准和技术法规相继出台。TOC分析仪为各行业水质控制提供有效的检测手段。为了提升优普出厂水质的权威性，出厂水机质量更加有保证，我们自己的Sievers 500RL在线 TOC分析仪终于在“期盼中”回家了。

紧接着，仪器厂家的技术服务人员对质检部全体员工进行Sievers 500RL 在线TOC分析仪工作原理、特点、操作规范、及注意事项以及维护保养的培训。

优普拥有自己的水质检测设备，切实做到检测指标数据的真实性和科学性，确保了优普产品品质，为客户提供了实验室纯水准确的数据支撑。

       英国一家大型己内酯生产厂选用 InnovOx 有机物分析仪来帮助其下游污水处理厂达到现场排放许可标准，避免超出法规限值。 

       己内酯用于诸多制造行业，如粘合剂、汽车、树脂、 油漆、鞋类等。己内酯也是生产聚氨酯和热塑性聚 氨酯类产品的关键原料。每年生产数百万吨己内酯，作为专用聚合物的初级产品。 

       化工公司向当地污水处理厂排放废水。为了使污水处理厂能有效处理化工厂大量排放的有机废水，必 须严密监测化工厂的排放。如果排放超过限值，例如向污水处理厂排放过高的有机物量，就会使污水的生物处理过程（活性淤泥法）发生有毒的或不稳定的状况，从而大大削弱污水处理厂的处理能力， 甚至使污水处理厂完全丧失生物净化能力，以至于将污水排放到自然环境中。有机物排放量的增加， 还会提高污水处理成本，包括废弃淤泥的清理和通 风用电的成本。这些高出来的成本将由化工公司负担。

由于污水处理事故而超过排放限值，将造成以下严重后果：

1. 未处理的污水被排放到自然环境中。

2. 更换活性淤泥（清理受损淤泥，补充新淤泥），产生相关费用。

3. 通常需要花费几周的时间来逐步提高污水处理厂的处理量。在逐步提高处理量期间，只能净化小部分经处理的进水。

       当化工厂超过排放限值时，管理污水处理厂的市政当局有权进行审查和罚款。化工公司的首要目标是确保下游污水处理厂妥善处理污水，确保向自然环境中排放安全合格的处理水。而污水处理厂则希望降低排放附加费。因此，污水处理厂决定升级其有机工艺控制方法，采用更环保的、更经济的污水管 理工艺，确保排放浓度和排放量在适当的限值内。

       经过大量的现场测试，化工厂决定选用基于Sievers InnovOx技术的有机物监测系统。 目前有四台 Sievers InnovOx在线型TOC分析仪用于监测各种工艺样品流。该分析仪系统Z近检测到两次重大的工艺污染事件，使操作人员能够缓冲的有机物排放量，并同正常出水加以平衡，避免了超出排放限值。因此，该系统确保了污水处理厂在污染期间的可靠运行，帮助公司避免支付超额附加费和罚款， 以及负面影响所造成的损失。仅靠解决这两次事件， 公司便收回了对该监测系统的投资和运营成本。 

       分析仪在检测到过高出水峰值时，也会显示快速恢复正常。在线监测解决方案使污水处理厂能够在不 超出排放限值的情况下管理排放。 

       用户对 InnovOx 监测解决方案赞不绝口：“InnovOx TOC 分析仪在此应用中表现不俗。由于仪器的运行时间相当长，我们决定根据读数来立即确定出水水质。如今，我们能够更有效地控制污水处理过程， 更清晰地理解和预见在生产过程中导致有机物污染 的根源。这使我们能够立即对非正常出水状况作出反应，以免中断污水处理厂的运行。”