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光学元件在各个领域都有广泛应用，对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度，从而用于优化加工方法，保证终元器件的性能指标，是光学元件加工领域的关键问题之一。

光学元件的加工精度包括表面质量和面型精度，这些参数会影响其对光信号的传播，进而影响终器件的性能。

此外，各种新型光学元件也需要检测其表面轮廓，比如非球面，衍射光学元件，微透镜阵列等。除了终光学元件的加工精度以外，各种光学元件加工工艺也需要检测中间过程的三维形貌以保证终产品的精度，包括注塑、模压的模具，光学图案转印时的掩膜版，刻蚀过程的图案深度、宽度等。

布鲁克的三维光学显微镜配备专利的双光源技术，同时实现白光干涉和相移干涉成像，适用于各种不同光学样品、模具的三维形貌测量。在光学加工领域得到广泛应用。

· 设备可以用于光学元件表面质量检测，可以通过表面粗糙度、表面斜率分布等判断光学元件整体散射率，也可以统计局部的各种缺陷。

· 设备还可以用于各种光学元件的面型分析，除了手动分析以外，软件还提供了包括Zernike多项式拟合、非球面分析等功能。

· 由于该设备能准确测量和分析光学元件，在多种先进光学元件中得到广泛应用，包括光栅、菲涅尔透镜和二元光学元件等衍射光学元件，以及微透镜阵列等。 

Bruker三维光学轮廓仪系列（Bruker GT-X、Bruker ContourX-200、Bruker ContourX-500）以及bruker其他产品在上海尔迪仪器科技有限公司均有销售。价格优惠，响应迅速!

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光学元件在各个领域都有广泛应用，对光学元件的表面加工精度提出越来越高的要求。如何检测光学元件的加工精度，从而用于优化加工方法，保证最终元器件的性能指标，是光学元件加工领域的关键问题之一。

光学元件的加工精度包括表面质量和面型精度，这些参数会影响其对光信号的传播，进而影响最终器件的性能。此外，各种新型光学元件也需要检测其表面轮廓，比如非球面，衍射光学元件，微透镜阵列等。

除了最终光学元件的加工精度以外，各种光学元件加工工艺也需要检测中间过程的三维形貌以保证最终产品的精度，包括注塑、模压的模具，光学图案转印时的掩膜版，刻蚀过程的图案深度、宽度等。

布鲁克的三维光学显微镜配备双光源技术，同时实现白光干涉和相移干涉成像，适用于各种不同光学样品、模具的三维形貌测量。在光学加工领域得到广泛应用。

· 设备可以用于光学元件表面质量检测，可以通过表面粗糙度、表面斜率分布等判断光学元件整体散射率，也可以统计局部的各种缺陷。

· 设备还可以用于各种光学元件的面型分析，除了手动分析以外，软件还提供了包括Zernike多项式拟合、非球面分析等功能。

· 由于该设备能准确测量和分析光学元件，在多种先进光学元件中得到广泛应用，包括光栅、菲涅尔透镜和二元光学元件等衍射光学元件，以及微透镜阵列等。

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3D光学轮廓仪的特点以及应用

        3D光学轮廓仪常用于测定样品中被测区域的表面粗糙情况与轮廓形貌。本文以美国KLA公司提供的一款3D光学轮廓仪为例，让我们来了解一下吧。

产品特点：

   光学轮廓仪对各种产品，部件和材料的表面轮廓，粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。

应用：
   传统的机械零件由于受加工设备的限制，对精度包括平面度，粗糙度的要求常规下停留在微米量级。但随着技术发展，人们对机械零件的加工精度要求开始向纳米量级迈进，设备加工精度的提高带动检测技术的发展，传统的检测手段包括接触式和2D方式的检测方法对检测纳米量级精度的机械零件有很大的局限性。
   光学轮廓仪Z初应用在光学加工行业时，其3D、高速、精密、可靠和稳定，开始引起加工人士的注意并开始应用。3D光学轮廓仪已在汽车发动机喷油嘴、半导体切割刀具、人工关节制造、量块标定等方面有大量的应用。一些特定功能如平面度、粗糙度、直线度和高度差等在机械加工检测中呈现出新的应用。
   北京中海远创材料科技有限公司提供的Profilm3D光学轮廓仪让光学轮廓测量价格更为实惠，使用了目前先进的垂直扫描干涉 (VSI) 结合高极ng确度相移干涉 (PSI) 测量，以前所未见的价格使得表面形貌研究进入次纳米等级。咨询电话：18604053809

3D光学轮廓仪的特点以及应用

        3D光学轮廓仪常用于测定样品中被测区域的表面粗糙情况与轮廓形貌。本文以优尼康科技有限公司提供的一款3D光学轮廓仪为例，让我们来了解一下吧。

产品特点：

   光学轮廓仪对各种产品，部件和材料的表面轮廓，粗糙度、波纹度、面形轮廓、表面缺陷、磨损情况、腐蚀情况、孔隙间隙、台阶高度、弯曲变形情况、加工情况等表面形貌特征进行测量和分析。

应用：
   传统的机械零件由于受加工设备的限制，对精度包括平面度，粗糙度的要求常规下停留在微米量级。但随着技术发展，人们对机械零件的加工精度要求开始向纳米量级迈进，设备加工精度的提高带动检测技术的发展，传统的检测手段包括接触式和2D方式的检测方法对检测纳米量级精度的机械零件有很大的局限性。
   光学轮廓仪Z初应用在光学加工行业时，其3D、高速、精密、可靠和稳定，开始引起加工人士的注意并开始应用。3D光学轮廓仪已在汽车发动机喷油嘴、半导体切割刀具、人工关节制造、量块标定等方面有大量的应用。一些特定功能如平面度、粗糙度、直线度和高度差等在机械加工检测中呈现出新的应用。
   优尼康科技有限公司提供的Profilm3D光学轮廓仪让光学轮廓测量价格更为实惠，使用了目前先进的垂直扫描干涉 (VSI) 结合高精确度相移干涉 (PSI) 测量，以前所未见的价格使得表面形貌研究进入次纳米等级。

光学膜厚仪是一种非接触式测量仪器，一般会运用在生产厂商大量生产产品的过程，由于误差经常会导致产品全部报废，这时候就需要运用光学膜厚仪来介入到生产环境，避免这种情况的发生。

典型应用领域

半导体制造业，光刻胶、氧化物、硅或其他半导体膜层的厚度测量。

生物医学原件：聚合物/聚对二甲苯；生物膜/球囊壁厚度；植入药物涂层。

微电子：光刻胶；硅膜；氮化铝/氧化锌薄膜滤镜                       

液晶显示器：盒厚；聚酰亚胺；导电透明膜

由于是光学测量，在测量时候无须担心破坏样品，让用户简单快速地测量薄膜的厚度和光学常数，通过对待测膜层的上下界面间反射光谱的分析，几秒钟内就可测量结果。

优尼康科技有限公司提供的光学膜厚仪，是一款桌面型的产品，操作简单，适用领域广阔，远程的在线技术支持，让膜厚测量更轻松。

系统特点：

嵌入式在线诊断方式；

免费离线分析软件；

精细的历史数据功能，帮助用户有效地存储，重现与绘制测试结果

优尼康主要为半导体、新能源企业和高校及研发ZX提供各类精密进口制程及测量设备。提供全面的一对一销售服务，技术支持，备件管理和咨询服务。

在油田开发生产过程中，回注水是维持地层压力、保持油田高产稳产的重要手段。注入水中颗粒易引起油层污染和堵塞、降低油层吸水能力，其粒径的分布是衡量注水水质的重要指标，通常悬浮物粒径越小水质越好。在现行的《SY/T 5329-2012 碎屑岩油藏注水水质指标及分析方法》中，规定了两类仪器可以检测悬浮物粒径，一类是激光粒度分析仪，另一类是颗粒计数器。激光粒度仪适合分析颗粒浓度较高的浑浊水样品，颗粒计数器适合分析颗粒浓度较低的水样品。颗粒计数器又分电阻法颗粒计数器和光阻法颗粒计数器两种。

丹东百特研制的BettersizeC400光阻法颗粒计数器，具有检测回注水中悬浮物颗粒大小、个数和粒度分布的能力。它采用国际先进的光阻与散射结合技术，配合高灵敏度检测器和高速信号采集与传输系统，可准确的分析0.5-400μm之间的颗粒大小、个数和粒度分布。与电阻法颗粒计数器相比，光阻法的优势是可以直接测试水样，无需配电解质溶液，也不用更换小孔管。

光阻法颗粒计数器的原理是一束片状激光始终照射玻璃毛细管测量区，用柱塞泵使水样流过毛细管测量区，当水样中有颗粒通过测量区时，因为颗粒的遮挡和散射将使透过测量区的光产生与颗粒大小成正比的衰减信号和散射信号，通过传感器接收这些信号，再用专门的分析软件对这些信号进行处理，从而得到颗粒大小、个数和粒度分布信息。

BettersizeC400具有量程宽、灵敏度高、操作简便、结果准确、分析速度快等特点，特别适合测量这种低浓度的回注水样。我们用BettersizeC400对三种回注水样品进行分析，得到的粒径典型值D10、D50和D90，同时得到粒度分布，如下表和下图所示

依据SY/T 5329-2012标准要求，一般用D50值来判断回注水水质好坏，D50越小回注水水质越好。从上表和图中可以看到，3#回注水样的水质最 好，1#回注水样的水质最差。由此可见，Bettersize C400光学颗粒计数器能很好的检测低浓度油田回注水中的颗粒大小、和粒度分布，可在油田回注水质处理与检测方面发挥重要作用。

       锂离子电池由于具有能量密度高、寿命长、充电快、安全可靠、绿色环保等诸多优异性能，与当今人民的日常生活已密不可分，在手机、电脑、电动车、电动汽车、航空航天等领域均有广泛的应用。

       其中，Li2FeSiO4作为新一代锂离子电池阴极材料，由于具有价格低廉、环境友好、安全性好等优势，在大型动力锂离子电池应用方面具有良好的前景。然而，Li2FeSiO4材料在不同温度具有不同的结构相（∼ 400 °C :Pmn21, , ∼ 700 °C ：P121/n1, and ∼ 900 °C :Pmnb），因此，研究其不同结构的电化学性质对于进一步对其进行改性研究尤为重要。

       Waldemar Hergetta等人[1]采用高压光学浮区法获得了高温相（Pmnb）Li2FeSiO4单晶，并研究了晶体生长工艺参数对杂相的影响，相关结果已发表在Journal of Crystal Growth。作者所采用的高压光学浮区炉为德国SciDre公司的HKZ高压光学浮区法单晶炉。

温度梯度分布^[1]

XRD图谱及晶体实物图片^[1]

       德国SciDre公司推出的HKZ高温高压光学浮区法单晶炉可实现3000℃及以上的生长温度，晶体生长腔压力可高达300 bar，可实现10-5 mbar的高真空环境，适用于生长各种超导材料、介电材料、磁性材料、电池材料等各种氧化物及金属间化合物单晶生长。

德国SciDre公司推出的HKZ系列高温高压光学浮区炉外观图

参考文献：

[1]. Waldemar Hergett, Christoph Neef, Hans-Peter Meyer, Rüdiger Klingeler, Challenges in the crystal growth of Li₂FeSiO₄, Journal of Crystal Growth, Volume 556, 2021, 125995,ISSN 0022-0248, https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2020.125995.

一、接触角仪整体分类：
现有的接触角仪主要分为如下3类：
1、量角仪：本类仪器以先进的镜头十字形量角为基础。具体到接触角分析方法上，他们均会写明是量角仪。(具体请注意英文名称的差别)。
2、标准接触角仪：本类仪器通常选用CCD＋软件系统。从分析方法上，他们已经不再停留在量高量角这样的简单的接触角分析阶段，而采用简单的曲线分析的基础上。这类仪器现在国外采用得非常普遍。但是，会受到界面化学理论假设的影响。
3、高级接触角仪：本类仪器有光学系统中力图取得高清的影像，避免受到背景噪度的影响。

二、光学成像系统与接触角仪选购
光学成像系统的好坏会直接影响到接触角软件分析。毕竟，计算机系统再先进，他与无法与人一样可以直接识别图像。因而，光学系统设计的先进性是所有的关键。
通常，我们采用放大一定倍率的镜头和CCD组成。而具体成像的效果只有看实际图片方可以清晰的了解到。但好的成像效果的标准可以为，图像背景清晰，不影响整体观察。前景有很好的成像，具体到实感 。

三、接触角主机与接触角仪选购
接触角仪的主机主要体现在整体稳定性与操作简便性。这些会涉及到调焦的准确性，整体的稳定性，主机设计与软件设计的符合性等等。
但更为关键的是，主机的设计中还有一个更重要的因素，即可测试品的外形以及可测样品的体积(长、宽、高)，上海中晨可以定制各种类型的主机。我们建议选购时一定要考虑到这个因素，否则有可以测试发现无法完成。
同时，您想完成的操作不同，主机的设计也会不同。这些必须与厂商的销售工程师确认。但如果对方工程师对一些主机设计的关键技术不了解，就说明他也不了解整体接触角仪的应用，而您可能确实需要考虑是否从他们那里采购仪器了。

（来源：上海中晨数字技术设备有限公司）