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- 1040197145cc 2010-07-07 00:00:00
- 靶材运用:荷能粒子(例如氩离子)轰击固体表面,引起表面各种粒子,如原子、分子或团束从该物体表面逸出的现象称“溅射”。在磁控溅射镀膜中,通常是应用氩气电离产生的正离子轰击固体(靶),溅出的中性原子沉积到基片(工件)上,形成膜层,磁控溅射镀膜具有“低温”和“快速”两大特点。 QQ:10213735
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