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辉光放电光谱技术是一种分析技术,其能够直接对固体样品进行分析。材料的基板分析为其Z早的应用领域。这些年以来,辉光深度剖面分析技术在材料表面分析领域得到了广泛地应用,人们对此技术也越来越看重。辉光放电光谱仪相比于俄歇(AES)、二次离子质谱(SIMS)等其他的表面分析仪器,尽管原子水平的表层分析不能进行,然而其在表层和深度部面分析方面具有非常显著的优势,其又较为便宜的价格,能够非常迅速地分析和十分方便地定量。在国外的工厂、实验室及研究ZX得到了非常广泛的应用。新材料的研究开发和产品的质量控制为该技术的主要用途。
操作规程
辉光放电光谱仪通常要求长期开机从而使机器的稳定性得以保持。为了使系统中的氧气和水的含量足够低得到确保,光路系统(多色仪和单色仪)需要一直通过一定流量的高纯氮气进行充洗。
氩气作为辉光放电光谱仪的工作气体,在工作开始时,必须首先将氩气打开,再讲压缩空气(或氮气)打开将动力提供给气缸等活动部件。
安装样品,若表面不够平整或样品安装不当造成漏气,将仪器样品仓门关闭以后,会自动弹出样品,需要对样品进行重新处理或者更换。
将QUANTUM软件打开,方法选择合适,所需的大部分参数包含于方法中,所以检测数据准确的关键之处是选择正确的方法。
对测定参数设定,要视样品来设定某些参数,在基体分析时可以对测定次数,预扫时间等进行设定。在镀层分析时能够对图形分辨率(也就是每秒记录次数)进行设定。
点击分析,仪器即开始分析样品。
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