紫外臭氧清洗机应用

在国际上，随着光电子信息产业的发展，紫外光表面清洗技术也被提了出来。有机化合物的光敏氧化作用为紫外光清洗技术所利用，从而使得将黏附在材料表面上的有机物质去除的目的达到，通过光清洗后的材料表面能够"原子清洁度"。紫外臭氧清洗机为一种小型紫外臭氧清洗设备,能够用来对各种单晶基片进行清洗，从而使得成膜质量变得更好。

紫外臭氧清洗机应用

1、大规模集成电路的密度变得越来越高，晶格的微细化也变得越来越密，对于表面的洁净度也有了越来越高的要求。光清洗能够使表面的原子清洁度得到有效地实现，并且不会损伤芯片表面。

2、在半导体生产中，硅晶片涂保护膜、铝蒸发膜前进行光清洗，能够使粘合力得到提高，使针孔、裂缝的发生得以避免。

3、在光盘的生产中，沉积各种膜前作光清洗准备，能够使光盘的质量得到提高。

4、粘合磁头固定面，磁头涂敷与对金属丝的连接强度加以提高，光清洗以后会获得更加好的效果。

5、在LCD、OLED生产中，在涂光刻胶、PI胶、定向膜、铬膜、色膜前经过光清洗，能够使基体表面润湿性得到非常大的提高，使得基体表面的粘合力增强。

6、印制电路板生产中，对铜底板，印刷底板进行光清洗和改质，在导线焊接前进行光清洗，能够使得熔焊的接触面积提高，使连接强度得到大大的增加。尤其是高精度印制电路板，当线距达到亚微米级时，光清洗能够将在线距之间很小的微粒轻易地去除掉，能够使印制电路板的质量大大地提高。