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将各类胶液滴注于高速旋转的基片上,滴在基片上的胶液通过离心力在基片上均匀地涂覆的设备,被叫做匀胶机。溶胶的黏度以及匀胶机的转速对于膜的厚度起到决定性作用。
匀胶机试剂选取
能够用来作为旋转涂层的聚合物的种类有很多,在这当中PMMA为zui典型也zui简单的聚合物,其分子量适度,能够适度溶解于常见的溶剂。在这当中,较为典型的溶解溶剂即为溶剂三氯丙烷,然而因为其毒性问题造成了制备和质量控制的麻烦。现在常常通过环己酮试剂代替。如DMF等其他极性溶剂也较为常用。一般情况下,10-30%的聚合物在溶剂中溶解。溶液的粘度会受到溶剂的选择和聚合物的分子量非常大的影响,从而对所制备的涂层厚度产生影响。
活性染料或化合物在旋涂用到的大多数溶液中都掺杂了。在非线性光学研究领域。分散红和DANS为一般会掺杂的化合物。浓度为30%。
匀胶机响因素
通常而言,匀胶有着较快的转速,较长的时间,以及膜厚较薄,对匀胶过程产生影响的可变因素非常多。在匀胶时,这些因素一般这些因素并趋于平衡。因此zui好给予匀胶过程以足够的时间,使非常多的影响因素达到平衡。可重复性为匀胶工艺中zui重要的一个因素。薄膜特性巨大的差异会因为微细的工艺参数变化而造成。
匀胶机应用
匀胶机在半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃等工艺,制版的表面涂覆方面非常适用。匀胶机优点为能够较为迅速地启动以及具有较为稳定的转速,并且可以使半导体材料中涂胶厚度的一致性和均匀性得到保证。一般配真空泵一起使用。
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