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离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体。
离子溅射仪系统测试:
离子溅射仪真空系统:
1、对电压合适与否进行检查,将离子溅射仪主机电源插上。
2、将气体控制阀关闭。
3、将控制单元打开。
4、将泵暖机5分钟。
5、将控制单元关闭,将溅射头上盖的放气阀拔出放气,结束放气以后再将阀放下。
6、再次将控制单元,对0.1兆比特耗时进行检查,90秒钟较为合适。
7、运行15分钟,对真空到大约0.01兆比特进行检查。
8、将电源关掉。
离子溅射仪系统溅射单元:
1、抽真空至低于0.05兆比特。
2、对前面控制面板上的气体控制阀进行调节,使得压力稳定在大约0.08兆比特。
3、将主机后面的溅射电流控制旋钮顺时针旋转到底。
4、将TEST按下,这时mb灯熄灭,电流灯亮起,量表显示大约45毫安。
离子溅射仪基本参数:
离子电流:不超过50毫安
镀膜时间:9档,5秒至3600秒
气体控制:微调进气阀,能够和φ3毫米软管连接,将气体通入,对真空度和溅射电流进行调节。
zui高电压:负1200伏特
机械泵:标准配置每秒2升
主机规格:长360毫米,高300毫米,深380毫米
真空室:直径:160毫米,高:120毫米
上部电极:靶材料标准配置:金,靶直径:50毫米,厚度:0.1毫米。
溅射面积:中50毫米,zui高真空度:不超过4×100mbar
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