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光刻胶
- 品牌：美国MicroChem
- 型号： SU-8
- 产地：美国
- 供应商报价： 面议
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香港电子器材有限公司
更新时间：2024-07-12 13:40:30 -
企业性质授权代理商
入驻年限第7年
营业执照已审核
- 同类产品光刻/涂布(13件)
联系方式：刘小姐021-63813293
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- 详细介绍
MICROCHEM SU-8 负性化学放大胶
高深宽比，亚微米分辨率,侧壁陡直
适合I-line，宽光谱,电子束，X射线曝光
热稳定性>300C
可用于基于酸性溶液的电铸工艺SU-8 2000 系列
厚度范围，单层涂胶厚度为0.5 to > 200 μm
更多挥发性溶剂，与传统去边工艺兼容
降低了极性溶剂含量，减小表面张力
表面活性成分，改善涂覆效果
多用于 MEMS,微流以及光电子器件制作SU-8 3000系列
SU-8 3000常用于性结构制作，较SU-8 2000具有更好的基底粘附力，更不易于在工艺过程中产生内应力积累。常用于光电器件，MEMS芯片制作，以及作为芯片绝缘、保护层使用。
