产品简介

CHEMIXX (CL-E-D) 760用于清洗 (CL)、蚀刻 (E) 或显影 (D) 的单处理湿法系统。该系统是一种有效的单处理清洗、蚀刻或显影系统。加该系统具有易于操作的用户界面，具有所有需要的功能，例如： 配方编程、服务、维护和用户管理。在该系统的设计和构建中，非常重视安全性和用户友好性。

产品特色

÷ 基板尺寸高达 535 x 535 mm/21 x 21 inch

÷ 手动装载半自动系统

÷ 最多两个用于化学和机械加工的电动介质臂

÷ 提供多种喷嘴

÷ 低接触或定制夹头

÷ 加热介质线最高 60°C (85°C) *取决于介质

÷ 用于三种不同化学品的三个集成培养基供应系统。

可选：带罐的外部媒体柜（最大 10 升）

÷ 手动灌装或通过批量灌装系统

÷ 工艺室外的手动去离子水枪

÷ 去离子水室冲洗

÷ 带有安全互锁门的加工区透明玻璃窗

÷ 安装在背面框架中的电子柜

÷ 系统前端的紧急停止按钮

÷ 传感器控制的 3 路排水系统可通过配方进行编程。

÷ 带有三个光区的信号灯，用于系统状态的可视化

÷ 可调水平脚和运输轮

÷ 满足洁净室等级 10 (ISO 4) 的一般设计

技术数据

通用

衬底尺寸: 最大可达 535 x 535 mm / 21 x 21 inch

电机转速: 最大 3.000 转数*, 以 1 转 步进可编程

电机加速: 最大 2.000 转/秒*, 以 1 转/秒的步进

步进时间: 1 至 999.9 秒，步长为 0.1 秒

系统架构: 由粉末涂层不锈钢制成

系统外壳: 由 PP 白色制成（可选 FM 4910) 和4个可调节支脚

处理室: 由 PP 白色制成（可选 PVDF)

加工碗: 由 PP 天然制成

*取决于卡盘设计、衬底重量和负载

要求

电源: 400(208) VAC / 3 相 / N / PE / 50(60) Hz

真空: 0.8 巴（800KPa）/ -600 托尔, 管 OD Ø8 mm

氮 (可选): 4 - 6 巴（400-600KPa）, PE 管, OD Ø8 mm

CDA: 8 ± 2 巴（800±200KPa）, 管 OD Ø10 mm

去离子水: 4 巴（400KPa）, PFA 管, OD Ø21 mm (1/2”)

排气过程: 1x OD Ø110mm, 50-200 m³/h**

排气室: 2x OD Ø140mm, 50-200 m³/h**

排气容器: 1x OD Ø110mm, 50-100 m³/h