仪器网(yiqi.com)欢迎您!

| 注册 登录
网站首页-资讯-专题- 微头条-话题-产品- 品牌库-搜索-供应商- 展会-招标-采购- 社区-知识-技术-资料库-方案-直播- 视频

产品中心

当前位置:仪器网>产品中心> 深圳摩方新材科技有限公司>2微米打印系统设备>摩方精密nanoArch® S130
收藏  

摩方精密nanoArch® S130

立即扫码咨询

联系方式:400-822-6768

联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!

为您推荐

详细介绍

nanoArch® S130 系统简介

光学精度:2μm;
打印幅面:50×50mm;

极限微尺度增材制造设备。


nanoArch® S130 系统性能

性能参数nanoArch® S130 产品规格
光源UV-LED(405nm)
打印材料光敏树脂
光学精度2μm
打印层厚5~20μm
打印样品尺寸模式1:单投影模式:3.84(L)×2.16mm(W)×10mm(H)
模式2:拼接模式:38.4mm(L)×21.6mm(W)×10mm(H)
模式3:重复阵列模式:50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
打印文件格式STL
系统外形尺寸1720mm(L)×750mm(W)×1820mm(H)
重量550kg
电气要求220~240V AC,50/60HZ,2KW


设备特点优势

  1. 超高精度(XY打印精度高达2μm)

  2. 低层厚(5μm~20μm的打印层厚效果对比)

  3. 微尺度打印能力

  4. 光学监控系统,自动对焦功能

  5. 配置气浮平台,提高打印质量

  6. 优良的光源稳定性

  7. 配套功能强大的打印软件、切片软件



应用案例

  1. 微型弹簧阵列

  2. 微点阵

  3. 毛细管网状结构

  4. 类巴基球结构


技术文章

厂商推荐产品

在线留言

换一张?
取消