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PFEIFFER VACUUM - 高效粒子监测
- 品牌:法国普发真空
- 型号: PFEIFFER VACUUM
- 产地:法国
- 供应商报价: 面议
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香港电子器材有限公司
更新时间:2024-08-29 10:23:21
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营业执照已审核
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- 详细介绍
产品介绍:
高效粒子监测
亚微米粒子会造成可能导致相当大产量损失的缺陷。即使是测量值为0.1μm的zui小粒子,也可能会损坏半导体芯片的结构。创新的ADPC 302可测量芯片传送载体内的粒子数量(前开式晶圆传送盒FOUP,前开式装运箱FOSB)。全自动的专 利工艺从载体表面(包括门)对粒子进行定位和计数。
得益于领先的晶圆,该系统可用于成批生产和研发分析。主要应用是载体特征化、清洗策略优化和清洗质量检查。
与传统湿法相比较(液体颗粒计数器),ADPC的干式工艺(干式粒子计数器)显示出了明显的优势。干式工艺的主要优势在于粒子测量是完全自动的。它是在生产过程中集成的,因此不再需要生产周期之外的时间。有了全自动测量,该过程无需额外的操作员。测试时间只需7分钟,意味着ADPC 302的速度是传统系统的4倍。可在1个小时内测试8个运输箱。
APA 302
在洁净室环境下,APA 302是用于先进芯片制造的独特在线监测工具。这台革新性设备可以测量FOUP和周围环境中的空气分子污染物(简称AMC)。该测量实时发生,在ppbv范围内具有很高的灵敏度。
有效的污染监测
水分和空气分子污染物(AMC),例如,氟化氢(HF),于等待时间内,在FOUP槽对槽的空间里被释放出来。而这些元素会在图样晶圆上生成晶体生长,从而导致产量的损失和性能的退化。普发真空的APA 302通过FOUP过滤器来对AMC进行采样。在ppb的范围内,通过离子迁移光谱仪、火焰离子化检测、荧光紫外线或光腔衰荡光谱技术,测量在2分钟内发生,具有高灵敏度。而当负载端口上没有FOUP时,APA 302会监控周围的洁净室环境。
FOUP环境的可靠分析
为了保证性能,SEMI S2/S8兼容的APA 302配备了自动校准功能,它会在定期的时间间隔内被激活。对于在APA中对AMC的监控,可在有晶圆或无晶圆的POD中执行。FOUP可以手动传送,也可通过2个负载端口上的悬挂式起重运输(OHT)来传送。因此,可优化各工艺步骤间的等待时间,污染的增加量能立刻被察觉到,且产量增加。
- 产品优势
- 亚微米粒子会造成可能导致相当大产量损失的缺陷。即使是测量值为0.1μm的Z小粒子,也可能会损坏半导体芯片的结构。创新的ADPC 302可测量芯片传送载体内的粒子数量(前开式晶圆传送盒FOUP,前开式装运箱FOSB)。全自动的专利工艺从载体表面(包括门)对粒子进行定位和计数。
仪器种类: | 实验室 | 流量类型: | 大流量 |