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KMPR 1000 系列 -暂时/永久性高深宽比负型光刻胶

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详细介绍

KMPR 1000系列-暂时/永 久性高深宽比负型光刻胶

KMPR用作DRIE蚀刻掩模实现高宽比的图案。它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因KMPR减少了Cross-link密度,在Hard baked前,KMPR比较SU-8容易剥离。KMPR负性光刻胶可在任何(PGMEA),或(TMAH)的显影剂中得到显影。

高宽比成像(>5:1)和垂直侧壁

单一旋涂可达100微米

兼容标准水性显影剂(TMAH)

优异的金属粘附性

优异的电镀镀液稳定性


                                                                                                                                                                                                              


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产品优势
KMPR用作DRIE蚀刻掩模实现高宽比的图案。它还被广泛用作MEMS与生物器件的电镀模具。因KMPR减少了Cross-link密度,在Hard baked前,KMPR比较SU-8容易剥离。
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