-
-
脉冲激光沉积系统
- 品牌:桂宁
- 型号:
- 产地:金山区
- 供应商报价: 面议
-
轲润实验器材(上海)有限公司
更新时间:2024-05-30 15:46:14
-
企业性质授权代理商
入驻年限第3年
营业执照已审核
- 同类产品日本Seinan(2件)
联系方式:市场部021-58666118
联系我们时请说明在仪器网(www.yiqi.com)上看到的!
-
为您推荐
- 详细介绍
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(Pulsed laser ablation,PLA)指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品(衬底)上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求,在丰富经验的基础上设计制造的,采用PBN加热器,可将基板加热到1000℃以上,并采用氧气气氛,从而生产出高质量的薄膜。
诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统设备配置
薄膜沉积室
样品交换室
闸阀
闸阀(沉积室和样品交换室之间)
沉积室用真空计
样品交换室用真空计
沉积室排气系统
样品交换室排气系统
衬底加热系统
靶材台系统
激光镭射
台架可选项
电子枪
衬底加热系统
手套箱
手套箱运送机构
基材温度测量用温度计
离子泵诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统规格
沉积室中达到的真空度:1×10-6Pa以下
表面处理:电抛光(内表面镜面抛光后)
排气系统:涡轮分子泵+旋转泵,辅助阀、排气管道部件
样品交换室达到的真空度:1×10-4Pa或更低
表面处理:电抛光(内表面镜面抛光后)。
排气系统:涡轮分子泵+旋转泵,辅助阀、排气管道部件诚南工业PLD-301脉冲激光沉积系统的使用:
先将真空室抽到一定真空度, 靶面与基片平行放置, 激光束经由石英透镜聚焦到旋转的目标靶材上, 靶材和试样托分别以一定速度自转,以保证沉积薄膜层的均匀性。
- 产品优势
- 脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被称为脉冲激光烧蚀(Pulsed laser ablation,PLA)指的是用激光使材料挥发,从而将材料镀在所要求的样品(衬底)上的薄膜沉积技术。PLD-301脉冲激光沉积系统是日本诚南工业根据客户的要求,在丰富经验的基础上设计制造的,采用PBN加热器,可将基板加热到1000℃以上,并采用氧气气氛,从而生产出高质量的薄膜。
-
球形脉冲激光沉积系统(PLD)
-
气动式交流脉冲点焊机
-
脚踏式交流脉冲点焊机
-
美国Neocera PLD 脉冲激光沉积系统 P180 & PED 脉冲电子束沉积系统 PED-18
-
Neocera 脉冲激光沉积系统Pioneer 180-2-PLD
-
美国Trion Technology反应式离子刻蚀(RIE/ICP)系统及沉积(PECVD)系统
-
PICOSUN 原子层沉积机 P-300S Pro ALD
-
美国 NBM PLD脉冲激光沉积系统
-
脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
-
AdNaNotek 脉冲激光沉积系统 PLD-12L/18L
-
脉冲激光沉积系统
-
脉冲激光沉积系统