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高真空磁控溅射永磁靶头（条形方靶）
- 品牌：沈阳科晶
- 型号： 涡轮分子泵
- 产地：沈阳
- 供应商报价： 面议
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沈阳科晶自动化设备有限公司
更新时间：2024-07-19 08:10:30 -
企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
- 同类产品真空泵组(38件)
联系方式：吴女士024-23826163
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- 详细介绍
SKCC-TFB-X高真空磁控溅射永磁靶头（条形方靶）适用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形永磁体在靶头上，以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。1、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均匀分布；
2、条形方靶采用特殊结构（大型条形方靶经过生产线检验），可保证长期工作；
4、标准的接头，大型与DC匹配,小型既可以与DC电源匹配也可以与RF电源相匹配；
5、安装采用标准真空法兰（CF金属密封或Dg胶圈密封可选）；
6、靶材更换较为简单，无需调整溅射头的高度。产品型号
SKCC-TFB-X（高真空条形方靶）
产品规格
SKCC-TFB-X：
X代表方靶的“长X宽”尺寸，例如：
方靶尺寸：300X70(mm)，则名称为：SKCC-TFB-300x75
700X90(mm)，SKCC-TFB-700x90
1000X120(mm)，SKCC-TFB-1000x120
方靶尺寸范围：
长：220-2000，宽：75-150 单位：mm
其它尺寸可以根据客户要求订制：
主要特点
1、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均匀分布；
2、条形方靶采用特殊结构（大型条形方靶经过生产线检验），可保证长期工作；
4、标准的接头，大型与DC匹配,小型既可以与DC电源匹配也可以与RF电源相匹配；
5、安装采用标准真空法兰（CF金属密封或Dg胶圈密封可选）；
6、靶材更换较为简单，无需调整溅射头的高度。
配套电源
1、直流DC；2、射频RF
