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高真空磁控溅射永磁靶头(公、自旋转靶头)
- 品牌:沈阳科晶
- 型号: SKCC-GZB-X
- 产地:沈阳
- 供应商报价: 面议
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沈阳科晶自动化设备有限公司
更新时间:2024-07-01 08:06:57
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企业性质生产商
入驻年限第10年
营业执照已审核
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联系方式:吴女士024-23826163
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- 详细介绍
SKCC-GZB-X高真空磁控溅射永磁靶头(公、自旋转靶头)适用靶材种类较广,如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形永磁体在靶头上,以保证溅射镀膜的效率和均匀性。可与DC或RF电源配合使用。1、转靶带挡板(可实现每次露出一个工作的靶,避免交叉污染);
2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布;
3、转靶转速5~60转/分可调;
4、标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配;
5、安装采用标准真空法兰(CF金属密封或Dg胶圈密封可选);
6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。产品型号
SKCC-GZB-X(高真空磁控溅射公、自旋转靶头)
产品规格
1寸,SKCC-GZB-1
2寸,SKCC-GZB-2
3寸,SKCC-GZB-3
4寸,SKCC-GZB-4
注:其它尺寸可以订制
主要特点
1、转靶带挡板(可实现每次露出一个工作的靶,避免交叉污染);
2、采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均匀分布;
3、转靶转速5~60转/分可调;
4、标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配;
5、安装采用标准真空法兰(CF金属密封或Dg胶圈密封可选);
6、靶材更换较为简单,无需调整溅射头的高度。
配套电源
1、直流DC;2、射频RF