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mask智能清洗系统

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mask智能清洗系统 核心参数
仪器分类: 通用型
详细介绍

    SPIN旋转清洗形式,有效去除光罩表面附着污物之洗净及去除
    因应各种产品尺寸,更换固定治具即可作业,提升机台功能性 
    搭配超音波水洗清洗,去污力提升 
    触控屏幕接口人性化,操作简单,上手容易 
    依客制化需求可变更清洗流程

产品优势
表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分,使得衬底表面存在Z少量的颗粒,同时利用程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布
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