光阻顯影機/蝕刻剝離機/光阻剝離機

光阻顯影機

Model PRD408

高效型號 PRD408 是用在晶圓和基板上自動光阻顯影的理想解決方案。這種非常可靠和具有成本效益的系統是利用一個專有快速沖洗的技術來有效的對晶圓做顯影。快速填充去離子水可以精確控制循環時間。顯影劑可以不斷被過濾並自動補充，溫度可以精確地保持在顯影過程中。

蝕刻和剝離系統 (Etch and Strip Systems)

Model CESx124

UltraT CESx124 系列獨特的設計可滿足當今先進晶圓及基板的蝕刻及剝離。高效的 CESx124, 126, 128 或 133 是可蝕或剝離光阻從小直徑到非常大直徑的各種尺寸晶片，是光罩、晶圓和基板的蝕刻和清潔的理想選擇。具有非常可靠和成本效益的系統是採用經過驗證的各種技術。CESx 可配置不同噴嘴頭像是超聲波噴嘴、旋轉刷頭、高壓或是低壓噴嘴並用 DI-H2O 或其它化學溶劑來做蝕刻或剝離。可編程的拋物線臂運動有助於確保蝕刻的均勻。快速有效的乾燥技術結合了可變旋轉速度; 另可選配加熱 DI-H2O 和氮氣輔助。

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