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FR-Mic全自动带显微镜多点测量膜厚仪
- 品牌:希腊ThetaMetrisis
- 型号: FR-Mic
- 产地:希腊
- 供应商报价: 面议
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岱美仪器技术服务(上海)有限公司
更新时间:2024-08-07 14:35:12
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企业性质生产商
入驻年限第1年
营业执照已审核
- 同类产品硬化涂层膜厚仪(2件)
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- 详细介绍
产品介绍:
硬化涂层膜厚仪是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台计算机控 制的XY工作台,使其快 速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。品牌属于Thetametrisis。
Thetametrisis利用 FR-Mic,通过紫外/ 可见/ 近红外可轻易对局部区域薄膜厚度,厚度映射,光学常数,反射率,折射率及消光系数进行测量。
【相关应用】
1.高校 & 研究所实验室
2.半导体制造
3.(氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻胶及其他半导体薄膜.)
4.MEMS 器件 (光刻胶, 硅膜等.)
5.LEDs, VCSELs
6.数据存储
7.阳极处理
8.曲面基底的硬镀及软镀
9.聚合物膜层, 粘合剂
10.生物医学(聚对二甲苯, 生 物膜/气泡壁厚度.)
11.还有许多…
【Thetametrisis膜厚仪特点】
1、实时光谱测量
2、薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量, 厚度映射
3、使用集成的,USB连接高品质彩色摄像机进行成像
【Thetametrisis膜厚仪产品优势】
1、单击即可分析 (无需初始预测)
2、动态测量
3、包含光学参数 (n & k, color)
4、可保存测量演示视频录像
5、超过 600 种不同材料o 多个离线分析配套装置o 免费操作软件升级
【技术参数】
型号
UV/VIS
UV/NIR-EXT
UV/NIR-HR
DUV/NIR
VIS/NIR
DVIS/NIR
NIR
光谱波长范围(nm)
200–850
200–1020
200-1100
200–1700
370–1020
370–1700
900–1700
光谱仪像素
3648
3648
3648
3648&512
3648
3648&512
512
膜厚测量范围
5X-VIS/NIR
15nm–60μm
15nm–70μm
15nm–90μm
15nm–150μm
15nm–90μm
15nm–150μm
100nm–150μm
10X-VIS/NIR
10X-UV/NIR*
4nm–50μm
4nm–60μm
4nm–80μm
4nm–130μm
15nm–80μm
15nm–130μm
100nm–130μm
15X-UV/NIR*
4nm–40μm
4nm–50μm
4nm–50μm
4nm–120μm
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20X-VIS/NIR
20X-UV/NIR*
4nm–25μm
4nm–30μm
4nm–30μm
4nm–50μm
15nm–30μm
15nm–50μm
100nm–50μm
40X-UV/NIR*
4nm–4μm
4nm–4μm
4nm–5μm
4nm–6μm
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50X-VIS/NIR
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15nm–5μm
15nm–5μm
100nm–5μm
测量n&k蕞小厚度
50nm
50nm
50nm
50nm
100nm
100nm
500nm
光源
氘灯&卤素灯(internal)
卤素灯(internal)
材料数据库
>600不同材料
*测量面积(收集反射或透射信号的面积)与显微镜物镜和 FR-uProbe 的孔径大小有关。
物镜
光斑尺寸(μm)
500μm孔径
250μm孔径
100μm孔径
5x
100μm
50μm
20μm
10x
50μm
25μm
10μm
20x
25μm
17μm
5μm
50x
10μm
5μm
2μm
【工作原理】
*规格如有更改,恕不另行通知, 测量结果与校准的光谱椭偏仪和 XRD 相比较, 连续 15 天测量的标准方差平均值。样品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度测量的标准方差,样品:1um SiO2 on Si.
*超过 15 天的标准偏差日平均值样品:1um SiO2 on Si。
以上资料来自Thetametrisis,如果有需要更加详细的信息,请联系我们获取。
- 产品优势
- 硬化涂层膜厚仪是一款快 速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。
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