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等离子去胶
- 品牌:宝丰堂
- 型号: 0010
- 产地:珠海
- 供应商报价: 面议
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岱美仪器技术服务(上海)有限公司
更新时间:2024-08-07 14:35:12
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企业性质生产商
入驻年限第1年
营业执照已审核
- 同类产品微波等离子清洗(2件)
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- 详细介绍
产品介绍:
boffotto 宝丰堂自主研发设计生产的先进干法去胶、掩膜蚀刻系列产品,可用于大批量去胶与大剂量离子注入后去胶,同时还可用于各种硬掩膜层干法蚀刻。
微波等离子清洗,等离子去胶工艺拥有低污染颗粒,低成本大规模量产,高均匀性与高可复制性等工艺特征。采用高度模块化设计,为广大客户提供多样灵活配置方案,满足不同的先进制程要求。等离子去胶应用领域:1、LDI后光刻胶去除;2、光刻胶、聚合物去除(灰化);3、大剂量离子注入后光刻胶去除;4、二氧化硅、氮化硅、氮化钛掩膜蚀刻;5、碳化硅、氮化镓、钽酸锂、磷化铟材料工艺;6、射频滤波器BAW,SAW生产工艺中光刻胶去除;7、MEMS应用、晶圆级封装(PR、PI、BCB、PBO)。- 产品优势
- 等离子去胶工艺拥有低污染颗粒,低成本大规模量产,高均匀性与高可复制性等工艺特征。
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