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C11295 多点纳米膜厚测量仪
- 品牌:日本滨松
- 型号: C11295
- 产地:日本
- 供应商报价: 面议
- 滨松光子学商贸(中国)有限公司 更新时间:2024-02-04 13:42:48
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企业性质生产商
入驻年限第9年
营业执照已审核
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- 详细介绍
C11295 多点纳米膜厚测量仪
C11295型多点纳米膜厚测量系统使用光谱相干测量学,用以测量半导体制造过程中的薄膜厚度,以及安装在半导体制造设备上的APC和薄膜的质量控制。C11295可进行实时多点测量,也可以在膜厚测量中同时测量反射率(透射率)、目标颜色以及暂时变化。欢迎您登陆滨松ZG全新中文网站http://www.hamamatsu.com.cn/查看该产品更多详细信息!
特性
多达15点同时测量
无参照物工作
通过光强波动校正功能实现长时间稳定测量
提醒及警报功能(通过或失败)
反射(透射)和光谱测量
高速、高准确度
实时测量
不整平薄膜精确测量
分析光学常数(n,k)
可外部控制
参数
型号 C11295-XX*1 可测膜厚范围(玻璃) 20 nm to 100 μm*2 测量可重复性(玻璃) 0.02 nm*3 *4 测量准确度(玻璃) ±0.4 %*4 *5 光源 氙灯 测量波长 320 nm to 1000 nm 光斑尺寸 Approx. φ1 mm*4 工作距离 10 mm*4 可测层数 最多10层 分析 FFT 分析,拟合分析 测量时间 19 ms/点*7 光纤接口形状 SMA 测量点数 2~15 外部控制功能 Ethernet 接口 USB 2.0(主单元与电脑接口)
RS-232C(光源与电脑接口)电源 AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz 功耗 约330W(2通道)~450W(15通道) *1:-XX,表示测点数
*2:以 SiO2折射率1.5来转换
*3:测量400 nm 厚SiO2 薄膜的标准偏差
*4:取决于所使用的光学系统或物镜的放大率
*5:可保证的测量范围列在VLSI标准测量保证书中
*6:卤素灯型为C11295-XXH
*7:连续数据采集时间不包括分析时间