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德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X

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产品特点

德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X ,结合了灰度光刻机的zhuo越性能和纳米筛网首chuang的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。

详细介绍


德国Nanoscrib 双光子微纳3D打印机Quantum X 

重新定义精密加工。

 

 

全新的量子X是世界上第一个基于双光子灰度光刻(2GL)的工业系统。我们的设备结合了灰度光刻机的卓越性能和纳米筛网首chuang的双光子聚合技术的精确性和灵活性。该无掩模光刻系统实现了二维和2.5D的衍射和折射显微光学的快速制作。

Quantum X软件实时控制和监控打印作业,并执行自动系统校准。用户-机器交互由专用触摸屏或远程控制界面支持。

 

 

关键特性

2.5 d高速精密加工

超光滑的表面和卓越的形状精度设计自由度,亚微米分辨率完整和超快控制体素尺寸自动化过程,例如校准,

 

作业执行和监视

广泛的基材树脂组合,通过作业队列触摸屏和远程控制界面,连续执行各种打印作业

 

 

 

Technical Specifications

Printing technology:

Two-Photon Grayscale Lithography (2GL)

Minimum XY feature size:

160 nm typical; 200 nm specified*

Finest XY resolution:

400 nm typical; 500 nm specified*

Finest vertical steps:

10 nm, quasi-continuous topographies possible

Minimum surface roughness Ra:

≤ 10 nm*

Scan speed:

≤ 250 mm/s*

Area printing speed:

3 mm²/h typical for diffractive optical elements

 

 

 


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