Nanosystem 3D非接触式轮廓仪

NANOSYSTEM NVF-2700 3D光学表面分析仪通过的技术力对多样研究所有的表面提供优化解决方案。所有的功能实现全自动快速运转。

NVF-2700可以快测量所有表面的测量仪，利用持有的白光干涉仪WSI和相应算法开发的产品。X，Y，Z轴全部设计为全自动，通过可调节F.O.V镜头，自动构成多样的倍率。此产品专为研究所，大学和工艺管理而制作的产品。此设备可以通过拼接（Stitching）功能可以进行大面积（500㎟）测量。

WSI/PSI技术，只需要表面有1%的反射率即可测量，表面现象中的高度，宽度，幅度，粗糙度(Ra, Rq, Rz, Rt, etc)等各种项目均可测量。

此外，WSI的高度分辨率为0.1nm，2秒钟时间即可扫描所有的表面，在不破坏样品的情况下,可测定0.1nm到1000um的样品，均可观察2D/3D的现象。不仅如此，更是保障了0.1%(1σ)世界水准的重复性，本公司保有的技术可应用于 PCB, display, engineering part, chemical material, optical parts, bio, R&D等方面。

产品规格：

测量方法：白光扫描干涉法/相移干涉法

FOV镜头：4位电动转塔，可加装F.O.V（选项）

干涉物镜：5物镜可选(程控）

光源：白光LED照明

扫描范围：≤270um（PZT）

扫描速度：12μm/sec (1x~5x用户可选)

垂直分辨率：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm

横向分辨率：0.2-4μm（取决于物镜和FOV）

台阶高度重复性：0.1％@1σ (标准8um台阶样品)

倾斜度：±6°

XY行程：100mmX100mm

工作台尺寸： 230X230mm（程控）

选项

FOV镜头： 0.5X，0.75X，1X，1.5X，2X(可选)

干涉物镜：2.5x, 5x, 10x, 20x, 50x, 100x (可选)

扫描范围：最多达可达10mm（电机扫描选项）

技术比较

一般光学显微镜：广泛使用但是具有分辨率和重复性不高的缺点。

电子显微镜（SEM）：测量准备过程和测量时间超过20分钟 (star-up, vacuuming, and observation)，此外，检测台过小，不得不对测量物体进行破坏测量的情况较多。

传统接触式粗糙度测量仪：由于是接触式测量仪，会在样品表面留下划痕，精度在2微米左右。

原子显微镜（AFM）：消耗大量时间，准备过程非常复杂，测量技术最多需要12小时。

本公司WSI：无需任何准备，即可在2秒内完成精度在（0.1nm),并可测量0.1nm到1000um的样品，大量公司在产品的QC，QA或是R&D部门大量使用此产品。