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TEM显微镜氮化硅膜窗口

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详细介绍

SG系列

原位芯片生产的TEM氮化硅膜窗格由先进的微电子工艺打造,可用于微纳米样品高分辨电镜观测。此款窗格为3mm外径的八边形,适用于所有TEM样品杆,为适用于多种实验条件,原位芯片为科研人员提供了单窗格,多窗格及微孔窗格三种标准产品。氮化硅膜采用

低应力技术(<250MPa),化硅膜薄透且不易破损,非常适合于前沿的生物、材料、物理、

化学等方面的研究。

 

产品应用

•搭载TEM、SEM、AFM、拉曼和XRD等设备的样品。超薄的氮化硅膜可以为您提供稳

定的样品观测平台;

•可适用于需要加热处理的样品观测,本产品可耐受约1000℃高温;

•可适用于需要化学处理的样品观测,可以耐受盐酸、硫酸和强碱的腐蚀;

•可用于生物样品观测,氮化硅薄膜具有良好的生物亲和性;

•可适用于需要避C/Cu等元素的样品观测,载网表面无碳元素薄膜;

•可用于TEM、SEM、AFM、拉曼、XRD和同步辐射等设备的单一以及联合交叉检测。

 

技术参数

SG同步辐射氮化硅薄膜窗口

外框项目

参数

外框

参数

材料

N/P 型硅片

  电阻率

1~10Q*cm

氮化硅项目

  参数

  氮化硅项目

  参数

材料

  LPCVD 氮化硅  

应力

<250MPa

介电常数

6-7

介电强度

10 (106V/cm)

电阻率

1016Ω*cm

粗糙度(Ra)

0.28±5% nm

杨氏模量

270Gpa

  粗糙度(Rms)

0.40±5% nm

 

产品型号

产品编号

膜厚

窗口尺寸

SG010Z

10nm

0.10×0.10mm

SG015Z

10nm

0.15×0.15mm

SG025Z

10nm

0.25×0.25mm

SG050Z

10nm

0.50×0.50mm

SG025

15nm

0.25x0.25mm

SG050A

15nm

0.5x0.5mm

SG100A

15nm

1x1mm

SG025B

30nm

0.25x0.25mm

SG050B

30nm

0.5x0.5mm

SG100B

30nm

1x1mm

SG025C

50nm

0.25x0.25mm

SG050C

50nm

0.5x0.5mm

SG100C

50nm

1x1mm

SG050D

100nm

0.5x0.5mm

SG025E

200nm

0.25x0.25mm

SG050E

200nm

0.5x0.5mm

每盒包含10枚芯片


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