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说明为什么溅射产额能随离子质量的增加而增加

犄角乄旮旯    2017-05-07    离子溅射仪    浏览 492 次

精彩问答
簭翉aZ蹛P 发布日期:2017-05-08
二氧化硅(SiO2)薄膜是一种性能优良,应用广泛的介质薄膜。随着微电子技术和集成电路的快速发展,SiO2薄膜由于其稳定的化学性质和电绝缘性质,在集成器件中作为表面钝化膜和多层布线层间介质膜,更显示出它的重要地位,SiO2薄膜的制备工艺也成为集成电路制造技术重要内容。
SiO2薄膜的制备方法得到了发展与应用,主要有物理气相沉积、化学气相沉积、氧化法、溶胶凝胶法和液相沉积法等。其中物理气相沉积(PVD)物理气相沉积主要分为蒸发镀膜、离子镀膜和溅射镀膜三大类。
Z新发展起来的磁控射频溅射技术,能达到快速和低温的要求,不仅弥补了射频溅射的缺点,大大减小了电子对衬底表面直接轰击造成的损伤,且能在较低的功率和气压下工作。绝缘体和导体均可溅射,工艺简单,衬底温度低,薄膜厚度的可控性、重复性及均匀性与其他薄膜制备方法相比有明显的改善和提高,因而得到了广泛使用。
你可以参考一下以下文献:
许生,侯晓波,范垂祯,等.硅靶中频反应磁控溅射二氧化硅薄膜的特性研究[J].真空,2001,(5):1~6.[8] 
郑祥钦,郭新立,廖良生,等.脉冲激光沉积硅基二氧化硅薄膜的蓝光发射[J].半导体学报,1998,19:21~24
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