最近小伙伴对于溅射仪使用和技术参数问的问题比较多，今天总结一下溅射仪的一些常见的技术问题：
1、膜厚检测仪原理：膜厚监测仪是采用石英晶体振荡原理，利用频率测量技术加上先进的数学算法，进行膜厚的在线镀膜速率和实时厚度计算。主要应用于MBE、OLED或金属热蒸发、磁控溅射设备的薄膜制备过程中，对膜层厚度及镀膜速率进行实时监测。
2、溅射仪是否可以镀镍：可以镀镍 但是 镍是导磁金属 所以 需要靶材尽量薄 0.5mm-1mm 太厚磁场无法穿透 溅射速率很低。
3、直流溅射镀膜调节：1 靶材需要良好的导电性, 如果具备这个条件 可以镀 2 遇到容易氧化的金属 需要配备分子泵把本底真空抽到1E-3Pa 放氩气维持真空到1Pa左右镀膜的金属接近本色。
郑科探小型溅射仪KT-Z1650PVD
以上是小伙伴近期问的比较多的问题，如果还有什么问题欢迎咨询。
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