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- 产地:北京
- 供应商:海德创业(北京)生物科技有限公司
EMS150T S高分辨率离子溅射仪High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater 型号:EMS150T S 简介: 分子涡轮高真空系统,CPU程序全自动控制,触膜屏用户界面,可镀多种膜材,也可镀相对较厚的膜。具有快速溅射易氧化和不氧化金属(贵金属)靶材的功能,可选各种溅射靶材,包括常用于场发射电镜的铱和铬。 可选配一系列可选附件,如:金属蒸镀、碳丝蒸镀、膜厚测量等。
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相关产品
- 溅射镀膜仪共30个
- 排列样式:
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EMS 650/EMS 650T大样品离子溅射镀膜仪
- 产地:美洲
性能特征: 全自动控制 低能冷却系统((功率是6W) 低电压溅射(100V,DC;每分钟温度升高不到2°C) 镀膜厚度精确(2nm金粒) 精确的可重复性 镀膜厚度20nm或200A(扫描电镜) 微电子控制 三个靶台同时溅射 聚碳酸脂安全外壳 仪器参数: 仪器尺寸: 450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)
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迷你型离子溅射镀膜仪
- 型号: EMS 7620
- 产地:美洲
EMS 7620是一款紧凑、实惠型SEM离子产品,镀碳附件EMS7620-CF作为可选件为镀碳时所需。该款设备具备辉光放电功能,这对于TEM的碳膜或其它材料样本表面修饰非常有帮助。特征: 价格实惠 操作简单 磁控管溅射头 结构坚实 碳丝蒸发可选 样本台高度可调 靶材更换简便,金/钯为标配靶材 符合的安全规程要求,具备主动电气连锁功能,确保操作安全 三年质保规格参数: 整机尺寸 340mm W x 130mm D x 250mm H (unpacked)不包括腔室 ...
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大样品离子溅射镀膜仪
- 型号: EMS300R T
- 产地:欧洲
适合SEM(扫描电镜)、FE-SEM(场发射扫描电镜)、TEM(透射电镜)。 EMS300R T 与EMS150R T相似,明显区别是EMS300R T腔室足够大,达到203mm,采用旋转真空泵抽真空;此外,它配备三个独立的溅射头,确保靶材粒子在大样本上的沉积效果。适合溅射不易氧化的贵金属如金、金/钯、铂等。(注意:既能溅射不易氧化金属,又能溅射易氧化金属,另见EMS300T T) 。特征参数1、 可以进行超大样本(直径至203mm)的金属镀膜2、 三个溅射头确保溅射沉积质量3、 单靶材选择功能,可以进行小样本镀膜4、 多种金属靶材比如金、金/钯、铂等可选5、 选择装配膜厚监测仪可以精确控制膜厚6、 全自动触摸屏控制,快速数字输入,操作简便7、 可以储存不同用户的程序8、 能够记录100个镀膜细节9、 真空自动控制,且具有真空保持功能10
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Peltier制冷型高真空溅射镀膜仪
- 型号: K575X
- 产地:英国MITECH
K575X使用“涡轮”泵,前级为旋片式机械泵,整个抽真空过程为自动控制。真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。K575d(双头)其它与K575X相同,只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时,不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。注:K575d技术规格与K575X相同,但它具有两头。K575X具有peltier制冷,对于比较厚的沉积,通常用K575d(双头)单元,它需要用水冷却。特点● 全自动控制● Peltier冷却溅射头● 精细镀层(0.5nm Cr粒子)● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置● 薄膜沉积(典型为5nm)●
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磁控管冷溅射镀膜仪
- 型号: K550X/K500X
- 产地:英国MITECH
K550X具有旋转样品台,它也可倾斜,非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复厚度沉积更为方便。磁电管靶使用低电压,可提GX率,K550X能得到非常精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。腔室直径为165 mm(6英寸),非常方便装载及移走样品。仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(或用户选择),提供Z适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯,铂/钯和铂。功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计,的“up-time”,这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。溅射参数可被预先设置,包括气体放气针阀,此阀为电磁阀,一旦设置,它就不需要再调节。溅射头互锁,系统可容易选配K250镀碳附件。本仪器为全自动操作,可控制独立的真空泵。特点● 全自动控制● 低电压溅射● 高分辨率精细涂层(金颗粒可达2 nm)● 具有倾斜装置
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108 Auto/SE 离子溅射镀膜仪
- 品牌:CRESSINGTON
- 型号: 108 Auto/SE
108 Auto/SE离子产品是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。108 Auto/SE离子产品主要特性:一、自动的换气与泄气功能,可以得到一致的膜厚,和Z佳的导电喷镀效果。二、通过GX低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。三、操作容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。四、在自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过程。可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果,五、通过使用MTM-20高分辨膜厚控制仪(选件)在达到设定膜厚时停止喷镀过程。六、可用MTM-20高分辨膜厚控制仪(选件)手动停止喷镀过程。七、数字化的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,可得到一致的镀膜速率和Z佳的镀膜效果。八、可使用多种金属靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd(Au靶为标配),靶材更换快速方便...
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FPTOR-TT-DSR 台式溅射镀膜仪
- 品牌:孚光精仪
- 型号: FPTOR-TT-DSR
台式产品又叫喷金仪,Sputter Coater,能够均匀地涂覆非导电或导电不良导电试样上的金(Au),银(Ag),钯(Pa)和铂(Pt)薄膜等贵金属,是进口产品品Pai中产品价格适中的喷金仪。台式产品良好设计使用户能够轻松地装载和卸载样品并快速更换目标。和喷金仪特征贵金属涂层,如金(Au),银(Ag)等触摸屏和彩色显示屏能够绘制溅射参数图包括用于图形,数据提取和软件更新的USB端口厚度监测系统,用于测量涂层过程中的厚度两级,直驱170 L / m,旋片泵150 mm外径x 150 mm Pyrex气缸室0-100 mA开关电源极限真空:小于30毫托气体:氩气 - 99.999%(调节至2-5psig);推荐但不需要手动或自动定时和厚度溅射控制溅射速度,达到更精细的晶粒结构高精度石英晶体厚度监视器在溅射过程中保护样品免受加热关闭时系统自动通风。氮气排放气(可选)独立...
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EMS 675X 三靶溅射镀膜仪(样本制备)
- 品牌:EMS
- 型号: EMS 675X
- 产地:美国
EMS 675X三靶产品(样本制备)High Resolution, Large Sample Sputter Coater 高分辨率,大样品,镀铬或其它金属 EMS675X三靶产品(样本制备)可用于8英寸(200mm)晶圆镀膜。主机系统具有双齿转动样品台,可进行渐进的椭圆形转动,这样使得溅射沉积更均匀。EMS675X三靶产品(样本制备)系统装有磁电管靶可增加溅射效率,它使用低电压,可得到薄而精细的涂层。在EMS675X中放置了三个靶面,可镀非常大直径的样品,加上旋转样品台,保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面,而用标准靶即可。多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵,前级为旋转机械泵。集成的仪器面板和即插即用的电子学Z大的“up-time”,还有用户友好设计,保证了多用户系统的应用。可预设溅射参数,包括气体放气电磁阀。独立的真空泵系统由仪器自动...
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EMS 650/EMS 650T 大样品离子溅射镀膜仪(样本制备)
- 品牌:EMS
- 型号: EMS 650/EMS 650T
- 产地:美国
EMS 650/EMS 650T大样品离子产品(样本制备)又称三靶大样品室离子产品(样本制备),EMS 650大样品离子产品(样本制备)配套装有直径60mm、厚度0.1mm的金靶(用户可以选择其它材质的靶材);面板式控制,Z佳的人性化设计;溅射参数可预先设置,包括控制排气的电磁阀(自动控制),可以获得精确的可重复的镀膜厚度;溅射头互锁,EMS 650和EMS 250镀碳配件通用;EMS 650可控制独立的真空泵。下图示EMS 650。EMS 650T是在EMS 650基础上加装了一个功率为60L/秒的涡轮增压泵,能够获得更高更洁净的真空。 性能特征:全自动控制低能冷却系统((功率是6W)低电压溅射(100V,DC;每分钟温度升高不到2°C)镀膜厚度精确(2nm金粒)精确的可重复性镀膜厚度20nm或200A(扫描电镜)微电子控制三个靶台同时溅射聚碳酸脂安全外壳仪器参数:仪器...
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EMS 575T 双头高分辨率离子溅射镀膜仪(样本制备)
- 品牌:EMS
- 型号: EMS 575T
EMS 575T双头高分辨率离子产品(样本制备)EMS 575T是一款涡轮泵双头高分辨率离子产品(样本制备)喷金仪。EMS-575T样本放置在旋转样品台上(the rotary stage),盖好盖子(the chamber lid),按下启动按钮,涡轮分子泵开始加速,5秒钟后,机械泵开始启动,同时十秒气体排空程序启动,两个泵同时运行确保一个高真空。当涡轮泵加速,它的速度由柱状图来标示,到达速度的一半时,真空计扭至自动状态。当腔内气体压降为10-4 mbar,排气开始,腔内气压维持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之间,排气的Z后阶段,靶材按照预订镀膜时间开始喷镀。镀膜需要两种不同金属的,不需要关泵,继续溅射另一种金属。喷镀完成后,两个泵停止,排气阀排气。 仪器质保期2年。模块化的单元结构使得仪器维护方便,摘掉问题模块,换上无问题的模块,仪器即可很好...