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- 型号: ICP等离子 RIE反应离子刻蚀机
- 产地:江苏 苏州市
- 供应商:苏州诺威特测控科技有限公司
德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE产品--上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州SENTECH仪器(德国)有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器(光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪)、光伏测量仪器(在线和离线测量工具)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统)。仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。NOVTEC寓意“科技创新”,即诺威特测控科技有限公司,在德国、日本设有代表处,多年来致力于将世界品Pai的高科技产品带给ZG及亚洲的广大用户,并为客户提供完善的售后服务,协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利,专业从事工业测量与测试产品的销售与研发,拥有产品研发ZX、研究院和生产工厂,技术力量雄厚。 SI 500...
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- 反应离子刻蚀机共24个
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德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机
- 产地:苏州市
德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE产品--上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州 SENTECH仪器(德国)有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器(光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪)、光伏测量仪器(在线和离线测量工具)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统)。 仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。NOVTEC寓意“科技创新”,即诺威特测控科技有限公司,在德国、日本设有代表处,多年来致力于将世界著名品Pai的高科技产品带给ZG及亚洲的广大用户,并为客户提供完善的售后服务,协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利,专业从事工业测量与测试产品的销售与研发,拥有产品研发ZX、研究院和生产工厂,技术力量...
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SENTECH Etchlab200 经济型反应离子刻蚀机(可升级)
- 型号: SENTECH Etchlab200
- 产地:北京
Cost-effectiveness 经济实惠 产品 Etchlab 200采用直接装片的平行板式等离子源设计。 Upgradeability 升级能力 Etchlab 200可方便升级,包括抽速更大的真空单元、预真空室及附加气路等。 SENTECH control software SENTECH控制软件 控制软件包括模拟用户界面,参数窗口,工艺程序编辑器,数据记录和用户管理。 Etchlab 200 RIE 刻蚀机是直接装载晶圆片等离子刻蚀设备,兼有平行板电极的优势。 Etchlab 200可以简单快速的装载直径200或300mm的晶圆片到载片盘或电极上,具有灵活、模块化和小型化的设计特点。上电极顶部有大尺寸观察诊断窗口,同时反应器能方便的容纳SENTECH激光干涉仪或者OES、RGA系统。 可以使用SENTECH椭偏仪通过专用的椭偏仪端口进行在线工艺监控。 Etchlab ...
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SENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机
- 型号: SENTECH RIE SI591
- 产地:北京
Process flexibility工艺灵活性 产品 SI 591系列兼容多种氯基或氟基刻蚀工艺。 Small footprint and high modularity设备小型化和高度模块化 Si591系列可设置为单腔系统或带盒式装片的多腔系统。 SENTECH control software SENTECH控制软件 控制软件包括模拟用户界面,参数窗口,工艺程序编辑器,数据记录和用户管理。 SI 591的真空装载片装置和完全由计算机控制工艺条件的软件系统,使其具优良的工艺重复性。灵活、模块化和小型化是SI591系统的设计特点,Z大能容纳200mm(8吋)的样品或载片盘。 SI591系统通过不同选件可实现穿墙安装或Z小占地面积。 大观察窗位于上电极顶部,反应器能方便的容纳SENTECH激光干涉仪或者OES、RGA系统。用SENTECH椭偏仪可以在设备上通过椭偏仪端口进行在线工...
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德国 Sentech 反应离子刻蚀机
- 型号: RIE SI591
- 产地:中国大陆
ENTECH RIE SI591 平板电容式产品 商品描述: ...
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美国Trion 具有预真空室的反应离子刻蚀机
- 型号: Minilock-Phantom III
- 产地:美洲
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反应离子刻蚀机(美国产,高性价比)
产品(美国产,高性价比)仪器简介:应用:-聚合物或光阻的等温各向同性干刻-硅片或玻璃表面清洁-硅表面氧化去除产品(美国产,高性价比)技术参数:配置,随机附件、备品备件:(1)6英寸水冷样品台(2)200瓦射频发生器和手动匹配器,watt RF Generator and manual matching network(3) 双数字读取前端和反射功率 ,Dual digital readout of forward and reflected power(4) 双气体控制,Dual gas controls(5) 独立的排空控制,Separate vent control(6) 石英腔体,Quartz chamber(7) 直流偏压表显示,DC bias meter display(8) 数字时间计时器, Digital termination timer(9) 射频防护...
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Nb oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铌
- 型号: Nb
- 产地:国外
oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铌ICP 感应耦合等离子体? 采用光刻胶作掩模,刻蚀速率150纳米/分钟? 对它下面的二氧化硅层的选择比大于10:1? 各向异性的外形? 100mm直径范围内均匀性公差+/- 3 %RIE 反应离子刻蚀? 采用光刻胶作掩模,氦气冷却,刻蚀速率70纳米/分钟? 对光刻胶掩模的选择比是1.1:1? 对于它下面的二氧化硅层的选择比是2.2:1? 各项异性的外形? 100mm直径范围内均匀性公差+/- 3 % Agilent 83497A 光电时钟恢复模块Agilent 8157A 光衰减仪Agilent 81637B 快速功率计Agilent 34570A 数字万用表Agilent 44476A 微波复用器模块Agilent 70004A 光谱分析仪Agilent 81000FI 光纤连接器Agilent 81002F
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Cu oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铜
- 型号: Cu
- 产地:国外
oxford-instruments Cu刻蚀(反应离子刻蚀)-刻蚀铜牛津仪器的铜刻蚀工艺技术离子束溅射失效分析用的ICP刻蚀 Agilent 83497A 光电时钟恢复模块Agilent 8157A 光衰减仪Agilent 81637B 快速功率计Agilent 34570A 数字万用表Agilent 44476A 微波复用器模块Agilent 70004A 光谱分析仪Agilent 81000FI 光纤连接器Agilent 81002FF 积分球Agilent 81521B 光功率计探头Agilent 81524A 光功率探头Agilent 8152 大功率光学探头Agilent 81533A 接口模块Agilent 81533B 接口模块Agilent 81536A 光功率计传感插件Agilent 81560A 可变光衰减器Agilent 81567A 可变光衰减器模块
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RIE/PE—反应离子刻蚀-等离子体刻蚀
优点 衬底电极被冷却 顶电极或底电极射频驱动(13.56兆赫兹) 自动开关 喷淋头式进气口(在顶电极上) 参数:气流、压强、射频功率牛津仪器的反应离子刻蚀和等离子体刻蚀工具: 特征 System80Plus System800Plus 电极尺寸 240mm 460mm
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等离子清洗机设备 等离子清洗机厂家 等离子刻蚀机
- 型号: CPC-B
- 产地:中国大陆
关于CIF:华仪行(北京)科技有限公司全权负责CIF大中华区一切事务!CIF公司来源于美洲,服务于ZG,总部位于美国加州洛杉矶,是一家集实验室仪器设备研发、制造、销售、服务、产品应用为一体的专业化集团公司。CIFZG总部坐落于企业孵化器---北京国际企业孵化ZX(IBI),系中关村高新技术企业,具有自主进出口权。公司已通过ISO9001-2008 质量管理体系认证。CIF自成立以来,始终坚持以科技创新和发展为宗旨,发扬“诚信、务实、协作、共赢”的企业精神,以的研发团队,的设计理念,生产的产品,同时,公司一直努力寻求国内外合作,力求把Z新的、先进的仪器引进ZG来,为ZG实验室服务,为人类健康服务。 CIF所做的一切是为包括我们的股东、员工、客户乃至商业伙伴在内的所有人提供创造和实现他们美好梦想的机会!CIF生产产品:样品前处理仪器:恒温电热板、