供应商：北京瑞亿斯科技有限公司

RTP-300快速热处理设备，产品咨询： 拥有世界先进水平，为您提供良好的服务和产品，望广大客户前来咨询RTP-300型快速热处理设备技术性能1. 温度范围: 150 - 1300 C 2. 升温速率: 100-200 C/ s3. 密封石英腔内面尺寸: 210X140X14 mm4. 单片机控制器: 时间设定范围 0.1 -999秒, 程序段8个, 独立可调5. 温度稳态稳定性: +/- 2 C6. 光源: 1.25kw X 13 卤钨灯 或1kw X 13 长寿命卤钨灯7. 电源: 380V 三相 , 32A8. 水源: 自来水或循环水, 压力: 1-3kg / 平方厘米9. 外形尺寸: 炉体箱尺寸: 440 X 200 X 520 mm电源箱尺寸:440 X 200 X 520 mmZ大能装的镜片是4英寸 可以用其他气体退火,空气,氮气都都可以 

供应商：河北德科机械科技有限公司

1、 产品|炉|分别是什么?热门搜索:大六头炉 烧烤炉VDK-708大四头燃气炉小四头烧烤炉 炉面火炉 炉【邢台润联科技开发有限公司】全称技术指导★★18届诚信服务单位★★全国工业品行业★★2014年高新技术企业★★第13届消费者信得过单位★★拨打电话请告诉我产品订货号，热线：【】2、 产品|炉|分别是什么?多种型号图片$n $n$n$n$n $n $n型号:RL126276大六头炉 烧烤炉$n型号:RL126277VDK-708大四头燃气炉$n型号:RL126263面火炉 炉$n $n【 产品|炉|分别是什么?一共有★★30★★多种型号以上只显示1-3种型号，如没有合适您的产品请咨询 河北润联科技公司】3、 产品|炉|分别是什么?多种型号内容型号:RL126276大六头炉 烧烤炉栏目页面:http://www....

供应商：米力光国际贸易有限公司

台湾森积科技有限公司RTA产品  电弧炉  晶体生长炉  热处理炉  热压炉  抽屜式 RTA - R-401 2"4"單片 加熱區：四區加熱設計，共 150X150 ㎜ 溫度: 1區, 操作溫度1000℃ 均溫區： 0 1100 ㎜ ±3℃ 適用晶片: 破片~4" Wafer 外觀尺寸: 500 x 500 x H1060 mm 升溫速率：1℃~100℃/ 秒 UP 模組化加熱體：加熱元件隔熱材料採用冷壁式設計 隔熱：採用氣體與冷卻水雙重冷卻 熱電偶：k- type 合金測溫線 進口數位可程式溫度控制器：一組 16 段 o...

供应商：上海全硕电炉有限公司

VTF系列高温真空气氛管式炉采用高纯石英或高纯氧化铝管作为炉管，工作温度区间800℃至1700℃。该系列设备的控制系统国际ling先，具有安全可靠、操作简单、控制精度高，保温效果好，炉膛温度均匀性高，可通气氛、抽真空等特点。广泛应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产。 二、产品规格参数：产品规格Product seriesQSH-VTF-1200TQSH-VTF-1400TQSH-VTF-1700TZ高温度Max temperature1200℃1400℃1700℃工作温度Working temperature≤1100℃≤1300℃1600℃升温速率 Heating rate0-20℃/min控温精Temperature accuracy± 1℃控温方式Temperature control51段可编程智能自动控制51segments programmable and PI

供应商：上海隽思实验仪器有限公司

RTP产品，快速热处理设备（RTP）简介    快速热处理设备（RTP）可用于砷化镓、硅以及其他半导体材料，离子注入后的退火、硅化物的形成、欧姆接触制备以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP产品，快速热处理设备（RTP）具有快速升降温、慢速升降温、和长工作时间稳定等特点。也可用于各种半导体材料的CVD工艺的热处理。RTP产品，快速热处理设备（RTP）主要技术指标　　l、外形尺寸：550×650×650mm（长×宽×高）　　2、炉内体尺寸：327×249×123mm（长×宽×高）　  3、工作室采用进口GE石英，外径尺寸：290×230×24mm（长×宽×高）；表面进行磨砂处理　　4、不锈钢反应室上下反射面聚焦设计，内表面采用镀金处理，减小热损失，极大提高了反射效率　　5、水冷却，确保灯箱散热与快速降温　　6、风扇冷却保证加热灯的...

供应商：郑州安晟科学仪器有限公司

真空气氛管式炉 太阳能电池基片产品炉胆采用低蓄热超轻质材料，节能。实验电阻炉的结构主要有炉架，炉壳，炉衬，炉门装置，电热元件及辅助装置构成。炉架的作用是承受炉衬和工件的负载，通常有型钢焊接成一个框架，外包钢板。TL： 一八零   三七三一    六一九八真空气氛管式炉 太阳能电池基片产品采用高温U型等直径硅碳棒为加热元件；是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业对陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材、金属、非金属及其它化和物材料进行烧结﹑融化﹑分析、生产而研制的专用设备。控制面板配有智能温度调节仪，控制电源开关、主加热工作 /停止按钮，电压、电流表、计算机接口，水泵开关，真空泵开关，气体流量计，正负压压力表，电接点压力表，阀门，以便随时观察本系统的工作状态，本产品采用可靠的集成化电路，工作环境好，抗干扰，温度时炉体外壳温度≤40...

供应商：凯戈纳斯仪器商贸（上海）有限公司

 快速热处理（RTP）已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前，只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理，这大大降低了研发工作的效率（尤其是小的样品）。为了满足市场的需求，ADVANCE RIKO研发出MILA-5000系列的小型产品。此系列的设备包含红外金面反射炉和高精度的温度控制器。根据需求选配相应的泵和气体接口，MILA能提供与大型RTP设备相同的热处理性能。特点：l 快速加热及冷却能力；l 可在任意气氛中使用；l 实时观测试样；l 精确的温度控制；型号MILA-5000Series温度范围：室温~1200℃加热功率：50℃/s（50~1200℃）真空45℃/s（50~1200℃）氮气氛围温度均匀性：±2.0℃（ΔT=4℃）1200℃真空±4.5℃（ΔT=9℃）1200℃氮气氛围加热气氛:大气、真空、惰性气氛环...

供应商：郑州成越科学仪器有限公司

 RTP产品的主要技术参数如下 加热元件：卤素电极；电极数量：12支；整机功率：7.2KW；升温速率：200℃/Second；降温速率：30秒(1000℃ → 400℃)；温度：1100℃；温度精度：+/- 1℃；样品尺寸：4英寸；气氛环境：真空、气体（氮气、氩气、氧气）、空气；真空系统：可根据实际需要选配无油机型泵或者分子泵应用领域：-快速热退火  - 快速热氧化 - 快速热氮化 - 硅化 - 扩散 - 化合物半导体退火 - 离子注入后退火- 电极合金化- 晶向化和坚化 - 合金熔点分析;- 薄膜沉积;  等等…欲了解更多关于RTP产品的详情可致电：1509335205

供应商：郑州成越科学仪器有限公司

 一、产品特点：CY-O1200-80IC-MRTP滑轨式管式炉炉管两端安装有水冷式真空法兰，真空度用分子泵可以到10-5Torr， 机械泵可到10-3Torr。采用双层壳体结构，并带有风冷系统，使得炉体表面温度小于60℃，炉底安装一对滑轨，可用手动滑动也可定制电动滑动。加热和 冷却速率可达100℃/min。为取得Z快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却效果，可在样品加热后移动炉 子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10℃/S,是低成本快速热处理的理想炉子。二、规格参数： 产品型号 CY-O1200-50IC-MRTP 温度 1200℃

供应商：郑州安晟科学仪器有限公司

安晟1200℃RTP滑动式产品炉管两端安装真空法兰，真空度用分子泵可以到10-5Torr，机械泵可到10-3Torr。炉底安装一对滑轨，可用手动滑动。加热和冷却速率可达100°C/m。为取得Z快加热，可以预先加热炉子到设定的温度，然后移动炉子到样品位置。为获得Z快冷却，可在样品加热后移动炉子到另一端。加热和冷却速率在真空或者惰性气体环境下可以达到10°C/s，是低成本快速热处理的理想炉子。 可选择单设定点或30段可编程控制器。节能型的陶瓷纤维材料和双层结构，可将外表温度降到常温。均温区长，操作简便，密封可靠，综合性能指标较高，处于国内领先水平。 炉管可选择配置耐热钢、石英玻璃、陶瓷管等材料。安晟1200℃RTP滑动式产品适用范围：可在真空不同气氛空气不同环境下，对样品进行快速热处理，主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等...