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- 型号: QSH-VCF系列
- 产地:上海 浦东
- 供应商:上海全硕电炉有限公司
本设备是由石英坩埚(或氧化铝陶瓷坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体保护下的高纯度化合物或扩散半导体晶片,也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。 二、产品参数说明型号QSH-VCF-1200TQSH-VCF-1400TQSH-VCF-1700T工作温度>1200℃>1400℃>1700℃加热元件电阻丝硅碳棒硅钼棒热电偶K型S型B型控温方式51段可编程自动控制,PID调节控温精度升温速率0-10℃0-20℃控温精度±1℃Z大真空度-0.1MPa炉膛材料氧化铝陶瓷纤维板炉壳双层炉壳,风冷结构(炉底安装两个散热风扇),炉壳表面温度低于60度额定功率1KW—8KW常用炉膛尺寸Φ240xH220mm;Φ40xH300mm;Φ60xH300mm;Φ80xH300mm;Φ100xH300mm;Φ120xH300mm 三、温控程序曲线示意图(六段为例): 四、温控程序对应符...
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QSH-VCF系列 真空井式熔炼实验炉
- 型号: QSH-VCF系列
- 产地:上海
QSH-VCF系列真空井式熔炼实验炉 本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。QSH-VCF系列真空井式熔炼实验炉型号及规格 产品是由石英坩埚(或氧化铝坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片;也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。 型 号QSH-VCF-1200TQSH-VCF-1600T炉膛尺寸可定制Z高温度1200℃1600工作温度1100℃1500控温方式智能化51段可编程自动控制智能化5...
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高温真空井式实验炉 高温坩埚炉
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QSH-VCF系列高温真空井式实验炉本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。QSH-VCF系列高温真空井式实验炉型号及规格 产品是由石英坩埚(或氧化铝坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片;也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。型号QSH-VCF-1200TQSH-VCF-1600T炉膛尺寸外径205×内径190×高340mm外径150×内径130×高200mmZ高温度1200℃1550℃工作温度1100℃1...
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热处理真空井式炉
- 产地:上海
QSH-VCF系列高温真空井式实验炉本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。QSH-VCF系列高温真空井式实验炉型号及规格 产品是由石英坩埚(或氧化铝坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片;也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。型号QSH-VCF-1200TQSH-VCF-1600T炉膛尺寸外径205×内径190×高340mm外径150×内径130×高200mmZ高温度1200℃1550℃工作温度1100℃1...
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安晟 1200℃-1700℃真空井式气氛炉
- 品牌:安晟美华
- 型号: 安晟
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1200℃-1700℃真空井式气氛炉四种常用的可控气氛向工业炉中通入可控气氛(又称保护气体)的目的是避免工件的氧化、脱碳或达到一定的工艺目的(如渗碳)。不同的金属和不同的热处理工艺,可能需用不同的可控气氛。 气氛可控原理:金属在火焰炉中加热时,其周围气氛的主要成分是CO2、CO、H2O、H2、O2及N2等。其中CO2、H2O和O2对金属有氧化或脱碳作用;H2和CO则是还原性气体;N。除对特定的金属外,一般是惰性气体,但普通氮源中都含有少量氧化性杂质,直接用于热处理时也会引起氧化。 气氛管式炉厂家总结冶金工厂常用的可控气氛可分为燃料制备气氛、氮基可控气氛、氨制备气氛及纯氢等。1、燃料制备气氛: 一般用气体燃料(天然气、丙烷、丁烷和焦炉煤气等)不完全燃烧或通过催化反应,去除CO2及H2O制取的可控气氛。当燃烧过程放出的热量能维持反应继续进行时,所得气体叫放热式气氛,可以分为Ⅰ型、Ⅱ型
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SA2-2-12 真空井式炉
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QSH-VCF系列 真空井式熔炼实验炉
- 型号: QSH-VCF系列
- 产地:上海市浦东新区
QSH-VCF系列真空井式熔炼实验炉 本系列产品,额定温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。QSH-VCF系列真空井式熔炼实验炉型号及规格 产品是由石英坩埚(或氧化铝坩埚)和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片;也可用于烘烧或烧结陶瓷材料。 型 号QSH-VCF-1200TQSH-VCF-1600T炉膛尺寸可定制Z高温度1200℃1600工作温度1100℃1500控温方式智能化51段可编程自动控制智能化5...
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