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- 型号: JN-GLD-1400
- 产地:温州市
- 供应商:温州市佳能真空电镀设备科技有限公司
JN-GLD系列真空光学(电子枪)镀膜机可镀制增透膜、反射膜、滤光膜、分光膜、带通膜、截止膜、高反膜、彩色反射膜等各种膜系,能够实现0-99层膜的膜系镀膜,也能满足如汽车反光玻璃、望远镜、眼镜片、光学镜头、冷光杯等产品的镀膜要求,配置不同的蒸发源、电子枪和离子源及膜厚仪可镀多种膜系;对金属、氧化物、化合物及其他高熔点膜材皆可蒸镀,并可在玻璃表面超硬镀膜。温州市佳能真空电镀设备科技有限公司是一家以真空镀膜设备为主营业务,集研发、生产、销售、服务于一体的综合性高科技环保型企业。佳能真空既是设备制造商,也是镀膜工艺的开发商,可为客户提供整套设备、工艺流程的设计以及技术人员的培训。公司拥有一支技术精良的研发团队,并聘请国内外多位知名专家为技术顾问,具备较强的自主研发能力,现已研发制造连续式磁控溅射镀膜生产线、平面矩形弧工具镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、中频磁控溅射镀膜机
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OEC真空光学电子枪镀膜机可镀制增透膜、反射膜、滤光膜、分光膜、带通膜、截止膜、高反膜、彩色反射膜等各种膜系,能够实现0-99层膜的膜系镀膜,也能满足如汽车反光玻璃、望远镜、眼镜片、光学镜头、冷光杯等产品的镀膜要求,配置不同的蒸发源、电子枪和离子源及膜厚仪可镀多种膜系;对金属、氧化物、化合物及其他高熔点膜材皆可蒸镀,并可在玻璃表面超硬镀膜。本公司拥有完善的售后服务体系,使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和先进的生产工艺。
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HTDC-300 北京霍桐镀膜机 镀膜机生产商 镀膜机生产厂家 镀膜机厂家
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北京霍桐镀膜机 镀膜机生产商 镀膜机生产厂家 镀膜机厂家HTDC-300浸渍提拉镀膜机简介 HTDC-300浸渍提拉镀膜机是适用于溶胶-凝胶法(Sol--Gel法,简称SG法)制备薄膜的浸渍提拉法的一款高精度仪器。核心部件采用进口配件,JZ控制提拉速度,多次重复镀膜无位置偏差。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、循环镀膜次数、浸渍时间、下降速度、停留时间均可以通过程序精确控制。适用于玻璃、Si(100)、Si(111)、蓝宝石(Al?O?)、瓷片以及树脂基板等常用基板。北京霍桐镀膜机 镀膜机生产商 镀膜机生产厂家 镀膜机厂家浸渍提拉法简介浸渍提拉法是将整个洗净的基板浸人预先制备好的溶胶之中,然后以精确控制的均匀速度将基板平稳地从溶胶中提拉出来,在粘度和重力作用下基板表面形成一层均匀的液膜,紧接着溶剂迅速蒸发,于是附着在基板表面的溶胶迅速凝胶化而形成一层凝胶膜。工艺示意图如下:影响薄膜厚度的因
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DP-100 浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机
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浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机 型号:DP-100一. 产品应用本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中,通过预先设置的浸渍时间、提拉速度、提拉高度、镀膜次数等参数,将浸渍后的基片以一定速度慢慢提拉起来,在基片的表面形成一层纳米级的薄膜。膜层厚度由提拉速度,液体浓度和液体粘度决定。采用溶胶-凝胶法镀膜,随着基片从溶胶中提拉出来,在基片上附着一层膜,称为 “湿凝胶膜”,随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发,膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。二. 浸渍提拉镀膜机是专门为液相(特别是sol-gel法)制备薄膜材料的研究工作而设计,对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数(多次多层镀膜)、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求,片状、块状、圆柱状等均可镀
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DP-100 浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机
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浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机 型号:DP-100一. 产品应用本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中,通过预先设置的浸渍时间、提拉速度、提拉高度、镀膜次数等参数,将浸渍后的基片以一定速度慢慢提拉起来,在基片的表面形成一层纳米级的薄膜。膜层厚度由提拉速度,液体浓度和液体粘度决定。采用溶胶-凝胶法镀膜,随着基片从溶胶中提拉出来,在基片上附着一层膜,称为 “湿凝胶膜”,随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发,膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。二. 产品简介浸渍提拉镀膜机是专门为液相(特别是sol-gel法)制备薄膜材料的研究工作而设计,对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数(多次多层镀膜)、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求,片状、块状、圆柱状
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DP-200 浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机
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浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机 型号:DP-200一. 产品应用本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中,通过预先设置的浸渍时间、提拉速度、提拉高度、镀膜次数等参数,将浸渍后的基片以一定速度慢慢提拉起来,在基片的表面形成一层纳米级的薄膜。膜层厚度由提拉速度,液体浓度和液体粘度决定。采用溶胶-凝胶法镀膜,随着基片从溶胶中提拉出来,在基片上附着一层膜,称为 “湿凝胶膜”,随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发,膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。二. 产品简介浸渍提拉镀膜机是专门为液相(特别是sol-gel法)制备薄膜材料的研究工作而设计,对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数(多次多层镀膜)、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求,片状、块状、圆柱状
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浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机 型号:DP-300一. 产品应用本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中,通过预先设置的浸渍时间、提拉速度、提拉高度、镀膜次数等参数,将浸渍后的基片以一定速度慢慢提拉起来,在基片的表面形成一层纳米级的薄膜。膜层厚度由提拉速度,液体浓度和液体粘度决定。采用溶胶-凝胶法镀膜,随着基片从溶胶中提拉出来,在基片上附着一层膜,称为 “湿凝胶膜”,随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发,膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。二. 产品简介浸渍提拉镀膜机是专门为液相(特别是sol-gel法)制备薄膜材料的研究工作而设计,对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数(多次多层镀膜)、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求,片状、块状、圆柱状
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MHY-09392 浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机
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浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机 型号:MHY-09392 一. 产品应用本产品主要用于溶胶-凝胶法等液相法制备薄膜材料。把洁净干燥的基片浸入溶液中,通过预先设置的浸渍时间、提拉速度、提拉高度、镀膜次数等参数,将浸渍后的基片以一定速度慢慢提拉起来,在基片的表面形成一层纳米级的薄膜。膜层厚度由提拉速度,液体浓度和液体粘度决定。采用溶胶-凝胶法镀膜,随着基片从溶胶中提拉出来,在基片上附着一层膜,称为 “湿凝胶膜”,随着“湿凝胶膜”膜层中溶剂的挥发,膜层在基片上固化成为“干凝胶膜”。“干凝胶膜”经过进一步的干燥及高温热处理便得到所需的纳米薄膜材料。二. 浸渍提拉镀膜机是专门为液相(特别是sol-gel法)制备薄膜材料的研究工作而设计,对不同液体通过浸渍提拉生长薄膜。提拉速度、提拉高度、浸渍时间、镀膜次数(多次多层镀膜)、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。对镀膜基质无特殊要求,片状、块状、圆
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MHY-09391 浸渍提拉镀膜机/提拉镀膜机/镀膜机
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镀膜机, HMDS镀膜机,真空镀膜机简介:镀膜机, HMDS镀膜机,真空镀膜机通过对烘箱预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数的控制可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。镀膜机, HMDS镀膜机,真空镀膜机的重要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到半导体制造中硅