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- 型号： Microwriter ML3
- 产地：欧洲
- 供应商：深圳市蓝星宇电子科技有限公司
Durham Microwriter ML3 产品 详细介绍 小型台式无掩膜光刻系统 小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便GX的微加工方案。 ...
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相关产品
- 无掩膜光刻机共2个
- 排列样式：
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FPKLO-UV 无掩膜光刻机
- 品牌：孚光精仪
- 型号： FPKLO-UV
- 产地：info@felles.cn 021-51300728
这套具有无掩模光刻技术的便利，大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率，节省时间，是ling先的无掩模光刻系统。无掩模光刻价格这款无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。无掩模光刻系统，产品特色尺寸：925x925x1600mm内置计算机控制接口激光光源：375nm或405nm视频辅助定位系统自动聚焦设置无掩模光刻机，产品参数线性写取速度：>500mm/s重复精度： 100nm晶圆写取面积：1—6英寸衬底厚度：250微米-10毫米激光点大小：1-100微米准直精度：500nm
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DMD无掩膜光刻机
DMD产品DMD式产品无需制造掩膜，采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。产品可以读取任何CAD数据，除此之外DMD式产品还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式产品使用365nmLED光源，降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜，一次曝光面积可达1mm´0.6mm，曝光时间仅需1s。结合电动移动平台，可实现曝光拼接，分辨率可达到3mm。可通过公司编写的软件完成详细设定，使操作简洁方便。DMD产品 与传统的光刻机不同，AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术，无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。产品可以读取任何创建的CAD文件，直接进行光刻。除了CAD文件，还可以读取丰富的其它格式的数据，例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。 AU-PALET DMD...
