NexION 300S ICP-MS 对光刻胶中的Si的分析
- 上传人: 珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司 |大小:1.16MB|浏览:723次|时间:2020-05-20
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使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰,而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高,所以为了分析低浓度的Si,必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、ZX管、炬管 )。
本实验的目的是利用NexION 的 DRC模式确定分析Si的**条件。
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