博远微纳/Vpi

降台

一款专门应用于光纤镀膜的样品台

ETD-2000C既有溅射功能，同时也具备热蒸发功能，一机多用，转换方便，经济实惠。

ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备，更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶（强/弱磁靶）、光纤旋转台（定制）、...

ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致，旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅射电流大小，成膜...

于ETD系列热蒸发仪 

ETD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，是北京意力博通技术发展有限公司针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点...

数：尺寸：直径50mm，厚0.2mm纯度：99.99%如需其他尺寸的靶材请咨询我们。溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控

SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。 磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点，磁控溅射法更...

数：尺寸：直径50mm，厚0.1mm纯度：99.99%如需其他尺寸的靶材请咨询我们。溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控

SD-900 型离子溅射仪外观亮丽做工精致，离子溅射仪，喷金仪旋钮式定时器档位清晰，手感舒适；特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气，具有欧洲典雅风范；前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体；调节溅...

数：尺寸：直径50mm，厚0.5mm纯度：99.99%如需其他尺寸的靶材请咨询我们。溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控

SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内，通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。

数：​尺寸：直径50mm，厚0.1mm纯度：99.99%如需其他尺寸的靶材请咨询我们。溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷

ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致，机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动镀膜设备；操作简便，...