ETD-3000型离子溅射仪外观亮丽做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅风范;前面板上的微泄漏气阀门可以连接多种气体;调节溅射电流大小,成膜速度快,质量好;高压输出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定时皆由CPU调度,使用范围广。
工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。
配有高位定性的飞跃真空泵
ETD-3000高压离子溅射仪参数:
溅射气体:根据实验目的可添加氩气,氮气等多种气体。
溅射靶材:标配靶材为金靶,厚度为50mm*0.1mm。也可根据实际情况配备银靶、铂靶等。
溅射电流:最大电流50mA,最大工作电流30mA
样品仓尺寸:直径160mm,高120mm
样品台尺寸:样品台尺寸可安装直径50mm和直径70mm的样品台,也可根据自身要求定制样品台
工作电压:220V(可做110V),50HZ
需要镀膜的样品
电子束敏感的样品电子束敏感的样品:
主要包括生物样品, 塑料样品等。S EM 中的电子束具有较高能量, 在与样品的相互作用 过程中,它以热 的形式将部分能量 传递给样品。如果 样品是对电子束敏感 的材料,那这种相 互作用会破坏部分 甚至整个样品结构。 这种情况下,用一种 非电子束敏感材料 制备的表面镀层就 可以起到保护层 的作用,防止此类损伤;
非导电的样品:
由于样品不导电,其表面带有“电子陷阱”,这种表面上的电子积累被称为“充电”。为了消除荷电效应,可在样品表面镀一层金属导电层,镀层作为一个导电通道,将充电电子从材料表面转移走,消除荷电效应。在扫描电镜成像时,溅射材料增加信噪比,从而获得更好的成像质量。
新材料:
非导电材料实验电极制作观察导电特性
ETD系列镀膜仪是一款专为SEM、TEM及薄膜应用设计的真空镀膜仪,对于扫描电镜尤其是高分辨场发射扫描电镜(SEM)样品制备、透射电镜(TEM)及其它非电镜(如材料领域)镀膜应用非常理想。ETD离子溅射仪采用金属压制的标准机箱,此机箱做工精良,结构稳固。飞越牌真空泵抽数快,真空稳定性高。自主设计的微型真空阀能准确的控制好压强,保证了镀膜期间**的真空条件。真空腔室直径为165mm (6.5英寸)的硼硅酸盐玻璃,特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。ETD系列含有电磁阀装置,在工作完毕后缓慢,平稳的进气以确保镀好的膜层尽可能的不被空气中的杂质所污染。ETD系列有七种型号:ETD-900、ETD-800、ETD-900C、ETD-800C、ETD-900M、ETD-3000、ETD-MH、ETD-CH,其中ETD-900C为一款集成了离子溅射和热蒸镀两种真空镀膜方式的系统,镀膜头可在数秒内快速完成镀膜。它既可溅射易氧化及不氧化金属(贵金属),标配一块金靶,可选金、银、铂等多种金属靶;用来制作高稳定性的碳膜和表面覆形膜,对透射电镜(TEM)的应用非常理想。
ETD-900M为一款溅射插入头为磁控系统的溅射仪,可使溅射处理期间产生的高能电子偏转,从而远离样品,这有助于创建必要的冷溅射环境以消除热影响,且确保溅射成膜中的精细颗粒结构;
ETD-3000型为一款针对材料做电极的溅射仪,较高的输出电压能使成膜更加牢固,防止膜层脱落。
仪器特点:
金属溅射和碳蒸发两者兼备,一体化设计,结构紧凑,节约空间。
精细颗粒溅射——适合先进的高分辨率场发射扫描电镜和钨灯丝扫描电镜制样的应用。
定时器控制——快速数据输入,操作简单。采用定时器作为简单的操作核心,即使最不熟练的或偶而使用的操作者,仪器也能使其快速键入自己的处理数据。
微型真空调节阀让使用者更好调节真空,以适应不同的靶材和材料,形成最更优质的薄膜。
精细的厚度控制——使用膜厚监控选项。(选配)
先进的碳纤维夹持上盖——简单操作,重复性好。
标配高低可调节样品台,可放置多个样品杯。还可定制多种型号样品台。
自动泄气装备可防止真空泵由于压差原因使油倒灌进样品室,还可避免样品突然暴露在空气中造成膜的污染。
标准成型机箱——小巧,美观,易维护和易拆装。
特殊设计的钟罩边缘橡胶密封圈,可保证长期使用不会出现影响样品溅射室真空度的玻璃钟罩“崩边”现象;陶瓷密封高压头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。
部分可选项:
光纤夹持旋转样平台
球型旋转台
显微镜载玻片样品台
用于高样品的加高腔室
膜厚监测附件(FTM),用于可重复膜厚控制:到达理想膜厚。
工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及选择所需的电离气体,获得**镀膜效果。
配有高位定性的飞跃真空泵
- 产品分类
- 品牌分类
-
仪企号
北京博远微纳科技有限公司
-
友情链接