邀请函丨Nanoscribe与您相约CIOE中国光博会

我们诚挚地邀请您参加于2024年9月11日~13日在深圳国际会展中心举行的CIOE中国光博会。展会面向光电及应用领域展示前沿的光电创新技术及综合解决方案。欢迎大家莅临Nanoscribe展位4号馆4C184，与我们一起探讨双光子聚合和灰度光刻技术并一同展望微纳加工的未来。

集成电路产业是现代信息社会的基石，其发展与半导体及微电子技术的进步密不可分。随着电子技术的飞速发展，各种新型半导体元器件层出不穷。对于半导体器件而言，它的制作和生产主要依赖于光刻技术，而具有更高性能的新设备的出现以及对复杂图案和生物相容性的需求引发了人们对新颖且低成本图形化工艺的需求。当前，各种光刻技术都在争相提出各种改进技术，以满足日益增长的市场需求。而光刻技术本身存在多种路线，如极紫外光刻技术（EUV）、纳米压印光刻等。

 今年，CIOE将再次携手EPIC欧洲光电产业协会举办 EPIC TechWatch - 欧洲光电产业协会技术展望大会。为深入了解光刻及纳米压印技术发展的现状与趋势，剖析前沿应用场景与市场动态，在本次会议汇聚了来自光学行业的专家和领导者，展示突破性的技术。Nanoscribe中国区总经理崔万银博士将参加此次CIOE展会并在多个论坛受邀演讲主持。