详细介绍
原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100
GasTDL-3100原位激光过程气体分析仪是基于可调谐半导体激光吸收光谱技术(TDLAS)的高性能光学分析仪器,采用对射式设计,可用于工业过程气体控制;其响应时间快速,在原位式测量中一般以秒计算,避免采样式测量带来的时间延迟,可在线及时的反应被测气体浓度。
原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100产品特性
采用TDLAS技术,被测气体不受背景气体交叉干扰
原位安装,无需采样预处理系统
响应快速(T90≤1s),可实时反应气体浓度
实时在线测量,气体浓度不易失真,测量精度高
在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性
隔爆防爆设计,安全系数高
构造简洁,无可动元件,无损耗元件,免维护
原位激光过程气体分析仪GasTDL-3100产品特性
性能参数 | |
测量组份 | H2S、O2、CO、CO2、CH4* |
测量原理 | TDLAS |
测试范围 | H2S:0 ~ 100ppm,0 ~ 5000ppm O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100%) CO:(0 ~ 100)%VOLCO2:(0 ~ 100)%VOL CH4:(0 ~ 20)%VOL |
精度 | ≤±1%F.S. |
重复性 | ≤±1% |
量程漂移 | ≤±1%F.S. |
分辨率 | 0.01%VOL |
响应时间 | T90≤1s |
工作参数 | |
防爆等级 | Ex d IIC T6 Gb |
安装方式 | 原位安装 |
环境温度 | (-20~ +60)℃ |
工作电源 | 24V DC,24W |
吹扫气体 | (0.3~ 0.8)MPa工业氮气 |
接口信号 | |
通讯 | RS485、RS232 |
输出模式 | 2路4-20mA输出 3路继电器输出 |
产品优势
1、采用TDLAS技术,被测气体不受背景气体交叉干扰
2、原位安装,无需采样预处理系统
3、响应快速(T90≤1s),可实时反应气体浓度
4、实时在线测量,气体浓度不易失真,测量精度高
5、在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性
6、隔爆防爆设计,安全系数高
7、构造简洁,无可动元件,无损耗元件,免维护
2、原位安装,无需采样预处理系统
3、响应快速(T90≤1s),可实时反应气体浓度
4、实时在线测量,气体浓度不易失真,测量精度高
5、在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性
6、隔爆防爆设计,安全系数高
7、构造简洁,无可动元件,无损耗元件,免维护
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