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上海伯东KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
发布:伯东企业(上海)有限公司浏览次数:205伯东公司 KRI 考夫曼霍尔离子源光学蒸镀镀膜机应用
常见蒸镀机台与对应 KRI 霍尔离子源型号:
蒸镀机台尺寸
KRI 离子源
~1100mm
eH1010
1100~1400mm
eH1010, eH1020
1400~1900mm
eH1020, eH3000
KRI 考夫曼霍尔离子源 controller 自动化控制及联机自动化设计,提供使用者在操作上更是便利。
KRI 考夫曼霍尔离子源 Gun body 模块化之设计、提供使用者在于基本保养中能够降低成本及便利性。
伯东公司客户 1400 mm 蒸镀镀膜机安装 KRI考夫曼霍尔离子源 EH1020 F,应用于塑料光学镀膜。
KRI 考夫曼霍尔离子源 EH1020 主要参数:Filament Controller
Discharge controller
Gas controller
17.2A/ 22V
150V/ 4.85安培
Ar/ 32sccm
利用 KRI 考夫曼霍尔离子源辅助镀膜及无离子源辅助镀膜对镀膜质量之比较:KRI EH1020 辅助镀膜
无 Ion Source 辅助镀膜
盐水煮沸脱膜测试
优
劣
破坏性百格脱膜测试
优
劣
光学折射设率
高
低
膜层致密性
优
劣
膜层光学吸收率
无
有
制程腔体加热温度
低
高
生产成本
低
高
KRI 考夫曼霍尔离子源系列主要型号包含:离子源 eH200
离子源 eH400
离子源 eH1010
离子源 eH1020
离子源 eH3000
Cathode
Filament or Hollow cathode
Filament or Hollow cathode
Filament or Hollow cathode
Filament or Hollow cathode
Hollow cathode
Water Cooled Anode
no
no
no
yes
no
Discharge Currentmax
2 A
3.5 (7) A
10 (7) A
10 (20) A
20 (10) A
Discharge Voltagemax
300 V
300 (150) V
300 (150 ) V
300 (150) V
250 (300) V
Discharge Voltagemin
40* V
40* V
40* V
40* V
40* V
Divergence (hmhw)
45°
45°
45°
45°
45°
Height (nominal)
2.0”
3.0”
4.0”
4.0”
6.0”
Diameter (nominal)
2.5”
3.7”
5.7”
5.7”
9.7”
伯东公司主要经营产品德国 Pfeiffer涡轮分子泵, 干式真空泵, 罗茨真空泵, 旋片真空泵; 应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);氦质谱检漏仪;质谱分析仪;真空系统以及 Cryopump 冷凝泵/低温泵, HVA 真空阀门, Polycold 冷冻机和美国KRI Kaufman 考夫曼离子源(离子枪)
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134
2022-03-28 -
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