大面积射频离子源 RFICP 380

价格电议

美国 KRI 大面积射频离子源 RFICP 380 特性:
1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.
   2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配
2. 离子源结构模块化设计
3. 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行
4. 栅极材质钼和石墨,坚固耐用
5. 中和器 Neutralizer, 测量和控制电子发射,确保电荷中性
6. 通气 Ar, O2, N2, others
7. 离子束流: 电流: > 500毫安, 能量 100-1200eV
射频离子源 RFICP 380 技术参数

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项ZG. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源ZG总代理.

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