详细介绍
小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发,为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。
![]() | 传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法,克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。 Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。 |
产品特点 | ||
Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测,并通过Z向调整和补偿,以保证曝光分辨率。 | 光学轮廓仪 Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具,用于匀胶后沉积层,蚀刻层,MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向 高精度100 nm,方便快捷。 | |
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直写前预检查 软件可以实时显微观测基体表面,并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度,直到设计图形按要求与已有结构重合,保证直写准确。 | 标记物自动识别 点击“Bulls-Eye”按钮,系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后,将自动将其移动到显微镜中心位置。 | |
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简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。 | Clewin 掩模图形设计软件 • 可以读取多种图形设计文件(DXF, CIF, GDSII, 等) • 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 • 书写范围只由基片尺寸决定 | |
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Microwriter ML3 | 基本型 | 增强型 | 旗舰型 |
大样品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
大直写面积 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 适用于SU-8 (365+405nm双光源可选) |
直写分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
直写速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
对准显微镜镜头 | x10 | x3 and x10 自动切换 | x3, x5, x10, x20 自动切换 |
多层套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
小栅格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
样品台小步长 | 100nm | 100nm | 50nm |
光学轮廓Z分辨率 | 无(可升级) | 300nm | 100nm |
样品表面自动对焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直写(255级) | 是 | 是 | 是 |
自动晶片检查工具 | 无(可升级) | 有 | 有 |
温控样品腔室 | 无 (可升级) | 无 (可升级) | 有 |
虚拟模板校准工具 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
气动减震光学平台 | 无(可升级) | 无(可升级) | 有 |
直写分辨率1μm ![]() |
直写分辨率0.6μm ![]() |
微电极制备 光刻胶上的图形 Au电极 (SEM) Au电极(SEM) ![]() ![]() ![]() |
设计图 光刻胶上的图 形 放大图的显微结构 ![]() ![]() ![]() |
微结构制备 ![]() ![]() ![]() ![]() |
微流通道制备 ![]() ![]() |
产品优势
Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统,具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm),无掩膜直写系统的灵活性,还拥有高直写速度,高分辨率的特点。采用集成化设计,全自动控制,可靠性高,操作简便。适用于各种实验室桌面。
- 产品分类
- 品牌分类
- (美国)美国Anasazi
- (英国)英国ICEoxford
- (法国)法国Alyxan
- (美国)美国HPD
- (日本)日本Tohuko
- (美国)美国MicroSense
- (美国)美国Applied NanoFluorescence
- (英国)英国Durham Magneto Optic
- (美国)美国PHOTOTHERAML
- (瑞典)瑞典NanOsc
- (日本)GES
- (比利时)比利时Metis
- (波兰)Novilet
- (法国)法国Hprobe
- (西班牙)Das Nano
- (德国) 德国LOT-Orial Group
- (瑞士)Qzabre
- (日本)日本Advance Riko
- (英国)Moorfield
- (德国)德国PANCO
- (西班牙)Planelight
- (美国)美国easyXAFS
- (青岛)致真精密仪器
- (德国)德国neaspec
- (美国)NanoView
- (瑞士)瑞士IRsweep
- (德国)Kiutra
- (日本)PULSTEC
- (美国)zeroK Nanotech
- (美国)美国Delong Instruments
- (法国)塔莱恩特(Telight)
- (美国)美国RHK Technology
- (法国)Spin-ION
- (芬兰)芬兰SPECIM
- (加拿大)ICSPI
- (奥地利)奥地利GETec
- (瑞典)Viventis Microscopy
- (日本)Nanophoton
- (美国)MONSTR Sense
- (奥地利)奥地利SCL-Sensor.Tech
- (德国)德国REACNOSTICS
- (美国)美国ARRADIANCE
- (英国)英国iotaSciences
- (瑞士)瑞士Swisslitho AG
- (美国)美国Lake Shore
- (德国)德国SciDre
- (美国)美国BlueWave
- (韩国)韩国NTi
- (美国)美国Thermal Technology
- (德国)iplas
- (美国)美国Depths of the eart
- (德国)Nanoanalytics
- (加拿大)加拿大Johnsen Ultrava
- (德国)NanoTemper
- (瑞士)瑞士Cytosurge
- (日本)Omegatron
- (荷兰)荷兰Lumicks
- (法国)法国abbelight
- (美国)美国Mizar Imaging
- (瑞士)attolight
- (英国)英国ONI
- (美国)美国Quantum Design
- (西班牙)西班牙Nanoscale Biomagnetic
- (美国)美国Montana Instruments
- (德国)德国LLS ROWIAK
- (德国)德国Attocube Systems
- (日本)日本RIBM
- (德国)德国THEVA
- (日本)日本Churitsu
- (瑞典)Excillum
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仪企号
Quantum Design中国子公司
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