旋转涂膜匀胶机

VTC-50PA-DC 微型旋涂机主要适用于液体、胶状体、可流动糊状体等薄膜材料的使用。设备采用不锈钢外壳结构，使产品更轻量化且耐腐蚀，上盖采用透明亚格力材质，可清晰的观察到涂膜整个过程。样品固定采用...

TC-100真空旋转涂膜机主要应用于大专院校、科研院所的实验室中的薄膜形成。本机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件

TC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件，操作简便。3、真空度最大可以

TC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。主要特点1、真空吸附方式固定样件，操作简便。2、使用定位工具可将样件很容易地放在中

TC-200真空旋转涂膜机主要应用于大专院校、科研院所的实验室中的薄膜形成。本机利用高速旋转使粘滞系数较大的胶体、溶液等材料均匀地涂覆在样件表面。主要特点1、二段程序控制速度。2、真空吸附方式固定样件

TC-50A旋转涂膜机能够在瞬间提供可控的高速旋转，迅速将液体、胶状体等材料在衬底上均匀地形成薄膜。主要特点1、采用铸铝结构。2、高转速下运行平稳。技术参数1、旋转盘：Φ100mm2、转速：0-800

VTC-200-CSC 柜式匀胶机采用全PP耐腐蚀全柜式设计,满足工业级别手动匀胶需求,配备自动点胶功能确保了匀胶和点胶过程中的重复性。1、耐腐蚀PP全柜式机台 2、适合于8寸以下晶圆匀胶工艺 3、

VTC-100PA-DC真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配两个不同大小的真空吸盘，可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘。V

VTC-50A-DC旋转涂膜机供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式，调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制，使得转数在高达1000-8000RPM范围内都非常稳定。涂膜机在工作

VTC-50B微型旋涂机使用24V电源供电，可放在手套箱中使用，调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制，使得转数在高达100-6000RPM范围内都非常稳定。该涂覆机VTC-50B微型旋涂机主要

VTC-50H是一款小型的旋转涂膜机，带有真空吸盘，此设备特别适合在手套箱内使用。设备旋转盘转速为500-8000rpm(可设置）。设备中包含一个加热罩和温度调控器，可快速加热到80℃。此款

VTC-200-4P红外加热喷雾旋转涂膜机、匀胶机、显影机、甩胶机、旋涂仪、spin coater主要用于半导体工艺、制版工艺过程中图形的显影及表面涂覆工艺，是一款上盖可以加热的匀胶机、显影机，在匀

VTC-100PAX真空旋转涂膜机是一款高性能精密匀胶机，采用了先进的设计理念，配合精密的运动控制系统，可以实现高精度、高均匀度的匀胶操作。可以存贮6组程序， 每组程序可达9步。所有运行参数如转速、

VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空，使样品在完全真空的状态下进行涂膜，适用于在空气

VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。VTC-200P真空旋转涂膜机腔体不可抽真空，工作时利用真空盘吸附的方式将样品固

VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便，体积小巧等优点，主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。VTC-200真空旋转涂膜机工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在载样