蒸发镀膜

GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸镀仪可对样品进行镀碳处理，可处理的样品直径可达50mm，真空度可达到10-2torr，适合用于实验室对小样品进行表面的蒸碳镀膜使用，该设备小巧，占用实验

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,还具有蒸镀速率快

OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜（CSS）炉是一款快速蒸发管式炉，专门用于PVD或CSS法制作薄膜；其炉管外径为11″，炉管内载样盘可放置3″ 的圆形或2″×2″的方形基片；OTF-1

450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。 产品名称 450型电子束蒸发镀膜系统

六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联

高真空单室热蒸发系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、 半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用 于大专院校、科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。系统主要由真空室系统蒸发室、蒸发源系

GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定，并精 确控制温度在200ºC-1500ºC（或者1200ºC-~1700ºC）的范围内进行变化，可蒸镀直径长达2"的薄膜样品，在

GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。不但可以用等离子溅射的方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或其他金属单质的薄膜。GSL-1100X-SPC-

GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪在蒸发镀膜过程中样品台

GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪，特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Ti、Al 、Au等）和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟，每个加热舟都可独立进行蒸镀，加热舟上方