-
解决方案
-
使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钆中的稀土杂质 Application Note (745526 (705300)_CHN _01)
发布:珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司浏览次数:6以上这些应用对轧金属的纯度有着极高的要求,因此,针对钊元素痕量杂质的检测能力尤为重要。长期以来,电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)因其低浓度检测能力广受认可,成为测量高纯Gd和其他REE化合物中杂质的首 选技术。
2024-08-27上一篇:使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钕中的稀土杂质 Application Note (706124_CHN _01)
下一篇:使用Avio 550 Max ICP-OES和HydraMist进样系统同时分析饮用水中的氢化和非氢化元素 Application Note (528059_CHN_01)相关仪器 -
免责声明
①本网刊载上述内容,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任
②若本站内容侵犯到您的合法权益,请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱:hezou_yiqi