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解决方案
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使用NexION 5000 ICP-MS直接测定高纯氧化钕中的稀土杂质 Application Note (706124_CHN _01)
发布:珀金埃尔默企业管理(上海)有限公司浏览次数:6消除分子离子干扰的蕞常用方法是将基质元素与分析物分 离。这种分离通常通过液-液萃取、 高效液相色谱(HPLC)作为 离线色谱分离或利用 ICP-MS的进样技术来完成, 但这些方法往往耗时耗力。
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