拥有突破性的功能和扩展功能,Optima 8000 不仅仅是全球Z受青睐的 ICP-OES 的技术革新。它是一场技术革命。
Optima8000 继续延续 PerkinElmer 在 ICP 技术方面的卓越成就和领xian地位,秉承一贯的设计,提供**的分辨率和线性动态范围。更重要的是,8000 的稳定性和检出限是以往任何ICP 仪器都无法企及的。
基于可靠的 Optima 平台设计,在业界领xian的 Windows 7 兼容 WinLab32 软件的控制下,8000 将令您对 ICP-OES 刮目相看。 该系列的超凡性能是通过优化进样系统、增强等离子稳定性、简化方法建立和大大降低操作成本的zui*技术 实现的。
各个实验室对最大化利用 ICP 的定义均大不相同。但是,无论您优先考虑的是精密度还是可靠性、是灵活性还是稳定性、是分析速度还是使用的简便性,您都可以在 Optima 8300系列中找到理想的解决方案。
使用平板等离子体技术降低氩气消耗
利用 PerkinElmerZL的平板等离子体技术,氩气消耗只有螺旋负载线圈系统的一半,即可形成同样强健、同样耐高盐基体的等离子体。这种全新的射频发生方式,可使射频发生器免维护,从而zui*程度上降低操作成本,同时不影响性能。平板等离子体技术在任意RF功率下只需 8 公升/分钟的等离子体气流量。
使用 eNeb 样品导入系统可实现 2 到 4 倍的更佳检出限
使用革新的 eNeb(电子喷雾器)系统,样品可地更有效、更GX地导入 Optima 中。基于精密制造的惰性喷雾头,eNeb 可形成直径不超过 6 微米的大小一致的液滴。这些大小一致的小液滴可更快速地干燥、雾化和电离,达到的检出限比使用其他样品导入系统可达到的检出限好 2 到 4 倍。
eNeb 的喷雾头采用坚固耐用的惰性聚合物制成,提供良好的基体相容性、耐酸性和精确性,是所有样品类型(包括含有高盐的样品类型)的理想选择。
高级光学系统确保的检出限
为了增强光输出量,Optima 仪器上的光学系统提供的检测限,更容易满足美国 EPA、EN 和 DIN 规定。使用热稳定光学系统(型号 8300)可确保非凡稳定性和分析准确性。
ZL的等离子双向观测提GX率
可以使用同一种方法测量高浓度和低浓度的元素,从而提高处理量和效率。
轴向观测提供zuidi的检出限,而径向观测的观测高度可变,可扩充工作范围和消除电离效应。
独特的切割气消除了干扰
这项革新技术通过消除离子的冷尾焰消除了干扰。由于它使用的是空气,而不是气体流量极大的抽风系统或者易于阻塞需要清洗的接口锥,尾焰切割系统免维护,可提高性能并使线性动态范围更大。消除尾焰也从zui*程度上降低了添加昂贵的电离YZ剂的需要。
可快速更换的可调节一体化炬管组件可简化维护并优化性能
Optima 一体化炬管组件易于调节(无需工具),即使当 ICP 在运行时也如此,便于优化性能,甚至是对于最难的样品亦如此。为增加灵活性,该仪器与各种喷雾器和喷雾室兼容,包括 eNeb、Scott/Cross Flow 和 Cyclonic/
Meinhard 多种选择。
两个高性能 SCD(谱线分隔式电荷耦合器件)检测器增强准确性
Optima 8300 上的检测器可在整个波长范围内提供的分辨率和性能(一个检测器用于 UV,另一个检测器用于 Vis),从而降低干扰和增强准确性。
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