-
公司新闻
-
新型激光直写无掩模光刻机在孚光精仪发布问世
发布：孚光精仪（香港）有限公司浏览次数：2016孚光精仪在上海，天津同时发布一款新型激光直写式雾无掩模光刻系统。
这款无掩模光刻机是一款高精度的激光直写光刻机。这套无掩模光刻机具有无掩模技术的便利，大大提高影印和新产品研发的效率，节省时间，是领xian的无掩模光刻系统。
这款激光直写无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。
激光直写无掩模光刻系统特色
尺寸：925x925x1600mm
内置计算机控制接口
激光光源：375nm或405nm
视频辅助定位系统
自动聚焦设置
激光直写无掩模光刻机参数
线性写取速度：>500mm/s
位移台分辨率：100nm
重复精度： 100nm
晶圆写取面积：16英寸
衬底厚度：250微米-10毫米
激光点大小：1-100微米
准直精度：500nm
2014-06-09 -
免责声明
①本网刊载上述内容，并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性，不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任
②若本站内容侵犯到您的合法权益，请及时告诉,我们马上修改或删除。邮箱：hezou_yiqi
认证会员 第
8 年
