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免费体验:精确测量光刻胶固含量,助力半导体工艺效率飞跃
发布:梅特勒托利多科技(中国)有限公司浏览次数:133精细工艺,从光刻胶开始
光刻胶,又称光致抗蚀剂,一种特殊的光敏物质,是微电子和半导体制造中不可或缺的材料,同时也是集成电路制造的核心耗材。它不仅关系到产品的最终性能,更是成品率和可靠性的决定性因素。
图片来源:光刻胶企业实验室实拍
在半导体光刻工艺流程中,包括了脱水烘烤、旋转涂胶、软烘、曝光、曝光后烘烤、显影、坚膜烘烤、显影检查等环节,只有使用固含量合适的光刻胶,才能确保上述流程顺利进行。
比如,在旋转涂胶的环节中,如果使用了固含量偏高的光刻胶,就会导致涂布后形成相对较厚的薄膜;反之,则会形成较薄的涂膜,直接影响了图案的精细程度和分辨率。又比如,在显影环节,如果选用了固含量较高的光刻胶,则会大幅增加所需的显影时间,降低了生产效率的同时,也会更容易导致光刻胶曝光后发生形变或收缩,导致图案的失真和变形。
图片来源:光刻胶企业实验室实拍
因此,对于光刻胶研发生产企业来说,只有准确快速地测试光刻胶固含量,才能确保产品质量合格,并符合客户要求。然而,如果使用传统的烘箱,则会面临光刻胶在进出烘箱时吸水,导致测试结果不准、测试效率低(通常需要数小时)的问题,无法完全满足实验需求,耽误生产及研发进度,给客户带来损失。
面对这样的挑战,超越系列快速水份测定仪则能完美解决这些问题,同时确保绝佳的测试重复性,助您轻松应对光刻胶的固含量测定。
光刻胶固含量测定新革命
01
创新后置式传感器设计,防止有机溶剂冷凝回流对结果造成影响
02
温和升温模式,最大程度防止有机溶剂冷凝回流,给测量造成误差
03
快速加热,称重传感器持续记录样品重量并自动判断恒重,测试结束后直接显示固含量结果,避免光刻胶在实验过程中吸水
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2024-05-30 -
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