紧凑型、模块化和智能化
CCU-010为一款结构紧凑、全自动型的离子溅射和/或蒸发镀碳设备,使用非常简便。采用独特的插入式设计,通过简单地变换镀膜头就可轻松配置为溅射或蒸镀设备。在镀膜之前和/或之后,可以进行等离子处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010标配膜厚监测装置。
特点和优点
✬高性能离子溅射
✬独特的即插即用溅射模块
✬yi流的真空性能和快速抽真空
✬结构紧凑、可靠且易于维修
✬双位置膜厚监控装置,可兼容不同尺寸的样品
✬主动冷却的溅射头可确保镀膜质量并延长连续运行时间
巧妙的真空设计
CCU-010 LV精细真空镀膜系统专为SEM和EDX的常规高质量溅射镀膜和镀碳而设计,CCU-010 LV_SP-010为磁控离子溅射镀膜仪。模块化的设计可将低真空单元很轻松地升级为高真空单元。特别选择和设计的材料、表面和形状可大大缩短抽真空时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。
溅射模块 SP-010 & SP-011
两种溅射模块一旦插入CCU-010 LV镀膜主体单元,即可使用。
SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能,连续喷涂时间长-非常适合需要较厚膜的应用;可选多种溅射靶材。
SP-010溅射装置的磁控组件旨在优化靶材使用。这使其成为电子显微镜中精细颗粒贵金属镀膜的理想工具。对于极细颗粒尺寸镀膜,推荐使用涡轮泵抽真空的CCU-010 HV镀膜主体单元。
SP-011溅射装置的磁控组件用于大功率溅射和宽范围材料的镀膜。对那些比常规EM应用要求镀膜速率更高、膜层要求更厚的薄膜应用时,推荐使用该溅射头。
等离子刻蚀单元 ET-010
在对样品进行镀膜之前或镀膜之后,可以对样品进行等离子刻蚀处理。使用该附件,可以选择氩气、其它蚀刻气体或大气作为处理气体。这样可以在镀膜前清洁样品,增加薄膜的附着力。也可在样品镀膜后进行等离子刻蚀处理,从而对膜层表面进行改性。
RC-010手套箱应用的远程控制软件
◎基于window的远程控制软件
◎创建和调用配方
◎实时图表,包含导出功能(Excel、png等)
◎自动连接到设备
可选多种样品台
CCU-010提供一个直径不小于60mm的样品台,该样品台插入到高度可调且可倾斜的样品台支架上。可选其它专用的旋转样品台、行星台、载玻片样品台等。
CCU-010 LV系列镀膜仪版本
除了CCU-010 LV磁控离子溅射镀膜仪之外,还可以选择:CCU-010 LV热蒸发镀碳仪;CCU-010 LV离子溅射和镀碳一体化镀膜仪;CCU-010 LV手套箱专用镀膜仪。所有CCU-010 LV版本均采用TFT 触摸屏操控,配方可编程,保证结果可重复;具有断电时系统自动排气功能,防止系统被前级泵油污染。